氯氣是工業(yè)生產(chǎn)中的重要原料，含氯消毒劑在生活中有著廣泛的用途。
（1）工業(yè)生產(chǎn)通過電解飽和食鹽水獲取大量氯氣，化學(xué)方程式為       。
（2）氯氣可用于制取84消毒液（有效成分為NaClO），離子方程式為       。
（3）下列措施能增強(qiáng)84消毒液殺菌能力的是       。
A．加入適量醋酸  B．加入適量亞硫酸  C．加入少量NaOH粉末
（4）氯氣與氫氧化鈉溶液反應(yīng)，若所得溶液恰好為中性，則溶液中離子濃度關(guān)系正確的是       。
A．c(Na^＋) + c(H^＋) = c(OH^－) + c(Cl^－)
B．c(Na^＋) = c(ClO^－) + c(Cl^－)
C．c(Na^＋) = 2c(ClO^－) + c(HClO)
（5）84消毒液不能用于消毒鋼鐵（含F(xiàn)e、C）制品，易發(fā)生電化學(xué)腐蝕，鋼鐵制品表面生成紅褐色沉淀。正極反應(yīng)為       。

（13分）直接排放氮氧化物會形成酸雨、霧霾，催化還原法和氧化吸收法師常用的處理方法。
（1）用化學(xué)方程式表示NO₂形成酸雨的過程____________________________
（2）利用NH₃和CH₄等氣體除去煙氣中的氮氧化物。
①NH₃的電子式              
②熱穩(wěn)定性 NH₃      CH₄（填“＞”=“<”）
③已知：CH₄(g)+2O₂(g)=CO₂(g)+2H₂0(l)  △H₁=akJ/mol； 欲計算反應(yīng)CH₄(g)+4NO(g)=CO₂(g)+2H₂0(l)+2N₂(g)的焓變 △H₂則還需要查詢某反應(yīng)的焓變△H₃，當(dāng)反應(yīng)中各物質(zhì)的化學(xué)計量數(shù)之比為最簡整數(shù)比時，△H₃=bkJ/mol，該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是__________________________據(jù)此計算出△H₂=           kJ/mol （用含a、b的式子表示）。
（3）利用氧化法除去煙氣中的氮氧化物。首先向氮氧化物中補(bǔ)充氧氣，然后將混合氣體通入石灰乳中，使之轉(zhuǎn)化為硝酸鈣。已知某氮氧化物由NO和NO₂組成，且n(NO)：n(NO₂)=1：3.寫出氧化吸收法除去氮氧化物的化學(xué)方程式______________________________________現(xiàn)有標(biāo)況下的O₂33.6ml，理論上可以處理該氮氧化物______ml（標(biāo)準(zhǔn)狀況下）。

氨和肼（N₂H₄）是氮的兩種常見化合物，在科學(xué)技術(shù)和生產(chǎn)中有重要的應(yīng)用。
（1）N₂H₄中的N原子可達(dá)到8電子的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，畫出N₂H₄的結(jié)構(gòu)式_____________。
（2）實(shí)驗(yàn)室用兩種固體制取NH₃的反應(yīng)方程式為______________________________。
（3）NH₃與NaClO反應(yīng)可得到肼（N₂H₄），該反應(yīng)的化學(xué)方程式為           。
（4）肼——空氣燃料電池是一種堿性電池，該電池放電時，負(fù)極的反應(yīng)式              。
（5）肼是一種高能燃料，有關(guān)化學(xué)反應(yīng)的能量變化如圖所示，已知斷裂1mol化學(xué)鍵所需的能量（kJ）：N≡N為942，O=O為500，N-N為154，則斷裂1molN-H鍵所需的能量是          kJ。

硫化氫（H₂S）是一種具有臭雞蛋氣味的無色氣體，有劇毒；存在于多種生產(chǎn)過程以及自然界中。在人體的很多生理過程中也起著重要作用。

A	B	C	D

硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料。鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法，該制備過程示意如下：          

（1）焦炭在過程Ⅰ中作______劑。
（2）過程Ⅱ中的Cl₂用電解飽和食鹽水制備，制備Cl₂的化學(xué)方程式是    。
（3）整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水。
①SiCl₄遇水劇烈水解生成SiO₂和一種酸，反應(yīng)的化學(xué)方程式是     。
②干燥Cl₂時，從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮，需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃，然后再通入到濃H₂SO₄中。冷卻的作用是    。
（4）Zn還原SiCl₄的反應(yīng)如下：
反應(yīng)1： 400℃～756℃ ，SiCl₄(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl₂(l)   ΔH₁ <0 
反應(yīng)2：  756℃～907℃ ，SiCl₄(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl₂(g)  ΔH₂ <0 
反應(yīng)3：  907℃～1410℃，SiCl₄(g) + 2Zn(g)  Si(s) + 2ZnCl₂(g)  ΔH₃ <0 
① 對于上述三個反應(yīng)，下列說法合理的是_____。
a．升高溫度會提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率      b．還原過程需在無氧的氣氛中進(jìn)行
c．增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d．Na、Mg可以代替Zn還原SiCl₄
② 實(shí)際制備過程選擇“反應(yīng)3”，選擇的理由是    。
③ 已知Zn(l)=Zn(g)  ΔH =" +116" KJ/mol 。若SiCl₄的轉(zhuǎn)化率均為90%，每投入1mol SiCl₄，“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出_____kJ的熱量。
（5）用硅制作太陽能電池時，為減弱光在硅表面的反射，采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層。腐蝕劑常用稀HNO₃和HF的混合液。硅表面首先形成SiO₂，最后轉(zhuǎn)化為H₂SiF₆。用化學(xué)方程式表示SiO₂轉(zhuǎn)化為H₂SiF₆的過程     。

多晶硅生產(chǎn)工藝流程如下：

（1）粗硅粉碎的目的是   。分離SiHCl₃ (l)和SiCl₄(l)的方法為   。
（2）900℃以上， H₂與SiHCl₃發(fā)生如下反應(yīng)：SiHCl₃ (g)+ H₂ (g)Si (s) + 3HCl (g)    ΔH ＞0，其平衡常數(shù)表達(dá)式為K =     。為提高還原時SiHCl₃的轉(zhuǎn)化率，可采取的措施有   。
（3）該流程中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是   。
（4）SiCl₄與上述流程中的單質(zhì)發(fā)生化合反應(yīng)，可以制得SiHCl₃，其化學(xué)方程式為   。

甲、乙兩組同學(xué)分別對銅、鐵與硝酸的反應(yīng)進(jìn)行探究，請你參與并完成對有關(guān)問題的解答。
（1）甲組同學(xué)采用如圖所示裝置驗(yàn)證銅與硝酸的反應(yīng)。已知儀器a中盛有足量一定濃度的硝酸溶液，試管b中盛有3.2  g銅。

①請寫出銅與稀硝酸反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式                                                 。
②在銅與硝酸的反應(yīng)中，硝酸所表現(xiàn)出的化學(xué)性質(zhì)主要有                                         。
③儀器c中收集的氣體主要是                     。（填分子式）
④待試管b中反應(yīng)進(jìn)行完全，如果向b中液體里加入足量氫氧化鈉溶液，可生成沉淀的質(zhì)量是                     g。
（2）乙組同學(xué)對鐵與稀硝酸的反應(yīng)進(jìn)行探究。他們用a  mol  Fe和含有b  mol  HNO₃的稀硝酸進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，若兩種物質(zhì)恰好反應(yīng)都無剩余，且HNO₃只被還原成NO，反應(yīng)結(jié)束后溶液中含有Fe³⁺和Fe²⁺。則
①反應(yīng)結(jié)束后的溶液中NO₃^－的物質(zhì)的量的取值范圍是                     。（用含a的代數(shù)式等表示）
②若反應(yīng)結(jié)束后的溶液中Fe³⁺、Fe²⁺的物質(zhì)的量之比n(Fe³⁺)∶n(Fe²⁺) 為3∶1，則b/a的值為                     。

有兩種位于短周期的相鄰周期、相鄰主族的非金屬元素X、Y，已知兩元素最高價氧化物的水化物均為強(qiáng)酸。根據(jù)下圖轉(zhuǎn)化關(guān)系(反應(yīng)條件及部分產(chǎn)物已略去)，回答下列問題：

(1)若A、B、C、D均為含X元素的化合物，且A、F的一個分子中都只含有10個電子，則：
①A分子的空間構(gòu)型為        ，F(xiàn)分子的電子式為          。
②反應(yīng) I 的化學(xué)方程式為               。
③化合物NaX₃是合成“達(dá)菲”的中間活性物質(zhì)，也是汽車安全氣囊中的主要物質(zhì)。NaX₃受撞擊后生成Na₃X和另一種氣體單質(zhì)，請寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式              。
④ X的氧化物是形成光化學(xué)煙霧原因之一，工業(yè)上可采用它與其氫化物反應(yīng)生成無毒害物質(zhì)而除去，請用方程式表示該反應(yīng)                          。
(2)若A、B、C、D均為含Y元素的化合物，其中A由兩種元素組成，且A的摩爾質(zhì)量為120g·mol^–1，則：
①將反應(yīng)IV所得的溶液加熱蒸干得到的晶體屬于          晶體(填“離子”、“分子”、“原子”)
②反應(yīng) I 的化學(xué)方程式為                        。
③含Y元素的化合物Na₂Y和次氯酸鈉溶液在強(qiáng)堿性環(huán)境中能發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)物無沉淀，請寫出該反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式                                         。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無機(jī)鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；诖嗽矸治龇磻�(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

某同學(xué)探究SO₂有關(guān)性質(zhì)。
（1）將SO₂通入BaCl₂溶液中，將所得溶液分成2份，在第一份中加入NaOH溶液，在第二份中滴入FeCl₃溶液，兩份都有白色沉淀。BaCl₂溶液中通入SO₂氣體的現(xiàn)象為   。在第二份溶液中滴入FeCl₃溶液時，SO₂表現(xiàn)   性，反應(yīng)的離子方程式為                   ，生成沉淀的化學(xué)式為       。
（2）下列不能用來吸收SO₂氣體的是    。