【題目】一種利用失活的含鎳催化劑(NiB、MgOSiO2)為原料制備超細(xì)鎳粉,其工藝流程如下:

已知:pH6時,Mg2、Ni2都不生成沉淀。

回答下列問題:

1)非晶態(tài)NiB可由KBH4Ni(NO3)2溶液反應(yīng)制備。KBH4的電子式為_________

2)“酸浸”時,為提高鎳的浸取率可采取的措施是___________ (列舉一點);濾值1中除了含有B單質(zhì)外,還含有___________ (填化學(xué)式)

3)若流程中沒有“NaOH溶液調(diào)pH=6”,則導(dǎo)致的后果是________

4)“氧化”時發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_______________;氧化時溫度不宜超過50℃,其原因是_________________

5)“還原”時產(chǎn)生無污染的氣體,“還原”時發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為___________

【答案】 碎失活的含鎳催化劑,增大反應(yīng)物的接觸面積或增大鹽酸的濃度(或用量)或適當(dāng)延長浸取時間或攪拌(或振蕩)等 SiO2 會產(chǎn)生大量硫化氫氣體,污染環(huán)境 NiS+4H2O2=NiSO4+4H2O 減少過氧化氫分解損失 2Ni2++N2H4·H2O+4OH=2Ni+N2+4H2O

【解析】

向失活的含鎳催化劑中加入鹽酸,NiB溶于鹽酸生成Ni2+B,MgO溶于鹽酸生成Mg2+SiO2與鹽酸不反應(yīng),過濾,得到含有Ni2+Mg2+的溶液和含有B單質(zhì)和SiO2的濾渣;向濾液中加入NaOH溶液pH6,再加入Na2S溶液,Na2S溶液與Ni2+反應(yīng)生成NiS沉淀,過濾得到NiS沉淀;向NiS沉淀中加入30%過氧化氫溶液,NiS沉淀與過氧化氫溶液反應(yīng)生成硫酸鎳和水;向溶液中繼續(xù)加入N2H4·H2O和氫氧化鈉溶液,硫酸鎳和N2H4·H2O堿性條件下發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成超細(xì)鎳粉。

1KBH4是由K+BH4組成的離子化合物,電子式為,故答案為:

2酸浸時,為提高鎳的浸取率,可粉碎失活的含鎳催化劑,增大反應(yīng)物的接觸面積或增大鹽酸的濃度(或用量)或適當(dāng)延長浸取時間或攪拌(或振蕩)等;向失活的含鎳催化劑中加入鹽酸,NiB溶于鹽酸生成Ni2+B,MgO溶于鹽酸生成Mg2+SiO2與鹽酸不反應(yīng),過濾得到的濾渣1中除了含有B單質(zhì)外,還含有SiO2,故答案為:碎失活的含鎳催化劑,增大反應(yīng)物的接觸面積或增大鹽酸的濃度(或用量)或適當(dāng)延長浸取時間或攪拌(或振蕩)等;SiO2;

3)若流程中沒有“NaOH溶液調(diào)pH=6”,加入Na2S溶液時,Na2S溶液會與氫離子反應(yīng)生成有毒的硫化氫氣體,污染空氣,故答案為:會產(chǎn)生大量硫化氫氣體,污染環(huán)境;

4氧化時,,NiS沉淀與過氧化氫溶液反應(yīng)生成硫酸鎳和水,反應(yīng)的化學(xué)方程式為NiS+4H2O2=NiSO4+4H2O,故答案為:NiS+4H2O2=NiSO4+4H2O;因過氧化氫受熱易分解生成氧氣和水,則氧化時溫度不宜超過50℃,故答案為:NiS+4H2O2=NiSO4+4H2O;減少過氧化氫分解損失;

5還原時,硫酸鎳和N2H4·H2O堿性條件下發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成超細(xì)鎳粉,反應(yīng)的離子方程式為2Ni2++N2H4·H2O+4OH=2Ni+N2+4H2O,故答案為:2Ni2++N2H4·H2O+4OH=2Ni+N2+4H2O。

練習(xí)冊系列答案
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【題目】感光性高分子又稱為光敏性高分子,是一種在彩電熒光屏及大規(guī)模集成電路制造中應(yīng)用較廣的新型高分子材料,其結(jié)構(gòu)簡式為

試回答下列問題:

1)該物質(zhì)的單體是______。

2)在一定條件下,該高聚物可發(fā)生的反應(yīng)有__________(填序號)。

①加成反應(yīng) ②氧化反應(yīng) ③取代反應(yīng) ④酯化反應(yīng)

3)該高聚物在催化劑的作用下,水解后得到相對分子質(zhì)量較小的產(chǎn)物為A,則:

A的分子式是_____

A在一定條件下與乙醇反應(yīng)的化學(xué)方程式是________。

A的同分異構(gòu)體有多種,其中含有苯環(huán)、,且苯環(huán)上有兩個對位取代基的結(jié)構(gòu)簡式是_______、______。

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【題目】某同學(xué)在家中進(jìn)行化學(xué)實驗,按照圖1連接好線路后發(fā)現(xiàn)燈泡不亮,按照圖2連接好線路后發(fā)現(xiàn)燈泡亮,由此得出的結(jié)論正確的是

A. NaCl固體中沒有離子

B. 2NaCl在電流的作用下電離出大量的離子

C. NaCl溶液中水電離出大量的離子

D. 2工作時發(fā)生了氧化還原反應(yīng)

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】工業(yè)上用鋁土礦(主要成分為Al2O3,含Fe2O3雜質(zhì))為原料冶煉鋁的工藝流程如下:

下列敘述不正確的是(

A.試劑X可以是氫氧化鈉溶液

B.反應(yīng)①過濾后所得沉淀為氧化鐵

C.圖中所示轉(zhuǎn)化反應(yīng)包含氧化還原反應(yīng)

D.反應(yīng)②的化學(xué)方程式為2NaAlO23H2OCO2=2Al(OH)3Na2CO3

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】Ⅰ.某;瘜W(xué)實驗興趣小組為了驗證在實驗室制備Cl2的過程中有水蒸氣和HCl揮發(fā)出來,同時證明Cl2的某些性質(zhì),甲同學(xué)設(shè)計了如圖所示的實驗裝置(支撐用的鐵架臺省略),請按要求回答下列問題。

(1) 實驗室制備Cl2所用的化學(xué)藥品是________。

寫出該反應(yīng)的離子方程式,并用單線橋表示電子轉(zhuǎn)移情況_____________________ ,此反應(yīng)中每轉(zhuǎn)移0.8mol電子,消耗Hcl____mol

(2)①裝置B的作用是_______

②裝置CD出現(xiàn)的不同現(xiàn)象說明的問題是___

③裝置E的作用是_______

(3)乙同學(xué)認(rèn)為甲同學(xué)的實驗有缺陷,不能確保最終通入AgNO3溶液中的氣體只有一種。為了確保實驗結(jié)論的可靠性,證明最終通入AgNO3溶液中的氣體只有一種,乙同學(xué)提出應(yīng)該在裝置______之間(填裝置字母序號)增加一個裝置,所增加裝置里面的試劑可以為___(填字母序號)。

A.濕潤的碘化鉀淀粉試紙 B.濃硫酸 C.濕潤的紅色布條 D.飽和食鹽水

Ⅱ.洪災(zāi)過后,飲用水的消毒殺菌成為抑制大規(guī)模傳染性疾病爆發(fā)的有效方法之一。漂白粉是常用的消毒劑。

①工業(yè)上將氯氣通入石灰乳[Ca(OH)2]制取漂白粉,化學(xué)反應(yīng)方程式為:_____________

②漂白粉的有效成分是________________________。

③漂白粉溶于水后,受空氣中的CO2作用,即產(chǎn)生有漂白、殺菌作用的次氯酸,化學(xué)反應(yīng)方程為________

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】1)某同學(xué)采用萃取分液的方法從碘水中提取碘,主要操作步驟如下圖:

①該同學(xué)所采用的萃取劑可能是______________(填序號)。

A 酒精 B C 四氯化碳 D 汽油

②甲、乙、丙3步實驗操作中,不正確的是_______________(填)。

2)實驗室制取、凈化并收集氯氣涉及以下幾個主要階段:

現(xiàn)有以下2種試劑:A 飽和食鹽水 B NaOH溶液

請在以上實際中選擇填空(填“A”“B”):

X溶液應(yīng)選用________________。

②尾氣處理過程中,多余的氯氣可用________________吸收。

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】下列說法中錯誤的是(  )

A. 在煤中添加石灰石作脫硫劑

B. 將廢棄塑料熱裂解處理,可獲得乙烯、丙烯等化工原料

C. 用催化法處理汽車尾氣中的CONOCONOCNO2

D. 利用二氧化碳等原料合成聚碳酸酯類可降解塑料代替聚乙烯

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】常溫下0.1mol/LCH3COOH、②NaOH、③CH3COONa,下列敘述正確的是(

A.①中[CH3COOH]>[CH3COO-]>[H+]>[OH-]

B.①②等體積混合后,醋酸根離子濃度小于③的二分之一

C.①③等體積混合以后,溶液呈酸性,則(Na+)>(CH3COO-)>(H+)

D.①②等體積混合以后,水的電離程度比①③等體積混合的電離程度小

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】化合物的結(jié)構(gòu)簡式如圖所示: (a)、(b)、 (c)。下列說法正確的是

A. 三種物質(zhì)中只有a、b互為同分異構(gòu)體

B. a、b、c分別有3種、4種、5種不同化學(xué)環(huán)境的氫原子

C. a、b、c均能發(fā)生氧化反應(yīng)、取代反應(yīng)、加成反應(yīng)

D. c分子內(nèi)至少有6個碳原子共平面

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