科目: 來源: 題型:
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科目: 來源: 題型:
A、結(jié)構(gòu)示意圖: |
B、電子式: |
C、球棍模型: |
D、比例模型: |
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科目: 來源: 題型:
A、2Fe2++4I-+3Cl2→2Fe3++2I2+6Cl- |
B、2Fe2++2I-+2Cl2→2Fe3++I2+4Cl- |
C、2Fe2++2I-+2Br-+3Cl2→2Fe3++I2+Br2+6Cl- |
D、2Fe2++4I-+4Br-+5Cl2→2Fe3++2I2+2Br2+10Cl- |
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科目: 來源: 題型:
A、醋酸溶液與Mg(OH)2反應(yīng):Mg(OH)2+2H+═Mg2++2H2O | ||||
B、碳酸鈉溶液呈堿性:CO32-+2H2O?H2CO3+2OH- | ||||
C、NH4HC03溶液與過量NaOH溶液反應(yīng):NH4++OH-═NH3?H2O | ||||
D、用惰性電極電解飽和食鹽溶液:2Cl-+2H2O
|
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科目: 來源: 題型:
分子 | 空間構(gòu)型 | 分子有無極性 | 分子 | 空間構(gòu)型 | 分子有無極性 |
O2 | HF | ||||
CO2 | H2O | ||||
BF3 | NH3 | ||||
CCl4 |
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科目: 來源: 題型:
n+m | 2 | |
VSEPR理想模型 | 正四面體 | |
價(jià)層電子對之間的理想鍵角 | 109°28′ |
分子或 離子 | PbCl2 | XeF4 | SnCl62- | PF3Cl2 | HgCl42- | ClO4- |
空間 構(gòu)型 |
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科目: 來源: 題型:
A、加熱可增強(qiáng)純堿溶液的去污力:CO32-+2H2O═H2CO3+2OH-_Q(Q>0) |
B、向Ca(HCO3)2(aq)中加入少量澄清石灰水出現(xiàn)白色沉淀:Ca2++OH-+HCO3-→CaCO3↓+H2O |
C、Fe3O4溶于稀HNO3:Fe3O4+8H+→Fe2++2Fe3++4H2O |
D、稀硝酸可洗去試管內(nèi)壁的銀鏡:Ag+2H++NO3-→Ag++NO2↑+H2O |
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科目: 來源: 題型:
A、任何化學(xué)反應(yīng)都可以設(shè)計(jì)成電解池反應(yīng) |
B、電鍍銅和電解精煉銅時(shí),電解質(zhì)溶液中的c( Cu2+)均保持不變 |
C、電解冶煉鎂、鋁通常電解MgCl2 和Al2O3,也可電解MgO和AlCl3 |
D、若把Cu+H2SO4═CuSO4+H2↑ 設(shè)計(jì)成電解池,應(yīng)用Cu作陽極 |
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科目: 來源: 題型:
A、Na2SO3溶液中滴加稀H2SO4:SO32-+2H+=SO2↑+H2O |
B、向AlCl3溶液中滴入足量的濃氨水:Al3++4OH-=AlO2-+2H2O |
C、Ca(ClO)2溶液中通入少量CO2:2ClO-+CO2+H2O=2HClO+CO32- |
D、Fe(NO3)2溶液中加入過量的HI溶液:2Fe3++2I-=2Fe2++I2 |
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科目: 來源: 題型:
A、Fe3O4與稀硝酸反應(yīng):Fe3O4+8H+=Fe2++2Fe3++4H2O | ||||
B、FeI2溶液中通入極少量Cl2:2I-+Cl2=I2+2Cl- | ||||
C、用惰性電極電解飽和氯化鎂溶液:2Cl-+2H2O
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D、Ca(HCO3)2與過量Ca(OH)2溶液反應(yīng):Ca2++2HCO3-+2OH-=CaCO3↓+CO32-+2H2O |
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