10.金屬的表面處理可以使金屬制品美觀耐用,我國2000多年前就已經(jīng)掌握化學鍍鉻即鉻鹽氧化處理技術,現(xiàn)代工業(yè)中常采用電鍍或化學鍍進行金屬表面處理.請回答:
(1)化學鍍金是借助合適的還原劑,使鍍液中金屬離子還原沉積到金屬表面.如化學鍍鎳是在酸性環(huán)境下以NaH2PO2為還原劑(氧化生成NaH2PO3)使Ni2+還原,其離子方程式為Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+

(2)工業(yè)上進行電鍍時,待鍍金屬作為陰極.電鍍鉻若采用Cr3+的簡單水溶液,電鍍過程中陰極附近的pH與電鍍時間的關系如圖1,pH變化的原因是H+參與放電,上述過程的發(fā)生對鍍層產(chǎn)生的影響是鍍層變薄且不均勻;
(3)為防止上述過程發(fā)生,電鍍鉻可以在硫酸鹽溶液體系中進行,圖2為硫酸鹽溶液中Cr3+的濃度對鍍層厚度和覆蓋范圍的影響,隨厚度增加,鍍層覆蓋范圍變化的原因可能是Cr3+濃度增加會使鍍層加厚,但濃度增加鉻晶粒變大使覆蓋范圍變;
(4)綜合考慮鍍層厚度及覆蓋范圍,電鍍鉻時溫度以30~40℃為佳,工業(yè)上控制反應溫度的設備名稱為熱交換器;電鍍鉻的過程中陽極會產(chǎn)生部分Cr2O72-,可以加入AB(填字母)除去;
A.H2O2   B.Na2SO3    C.FeSO4
(5)工業(yè)采用含Cr3+為3.25g/L的電解液電鍍鉻,則溶液pH不能大于4.(已知:35℃時,Kw=2.0×10-14,Ksp[Cr(OH)3]=5.0×10-31

分析 (1)化學鍍鎳是在酸性環(huán)境下以NaH2PO2為還原劑(氧化生成NaH2PO3)使Ni2+還原,還原產(chǎn)物是Ni,據(jù)此書寫離子反應;
(2)在電鍍工業(yè)中,待鍍金屬做陰極,鍍層金屬做陽極,根據(jù)電鍍池中電極反應式來回答;
(3)根據(jù)硫酸鹽溶液中Cr3+的濃度對鍍層厚度和覆蓋范圍的影響關系來分析原因;
(4)工業(yè)上控制反應溫度的設備名稱為熱交換器,Cr2O72-具有很強的氧化性,可以和還原性的試劑之間發(fā)生反應,但是不能引進雜質(zhì)離子;
(5)根據(jù)Ksp[Cr(OH)3]=5.0×10-31=c(Cr3+)•c3(OH-)來計算氫氧根離子濃度,根據(jù)Kw=c(H+)•c(OH-)來計算氫離子濃度,進而計算pH.

解答 解:(1)根據(jù)信息:化學鍍鎳是在酸性環(huán)境下以NaH2PO2為還原劑(氧化生成NaH2PO3)使Ni2+還原,還原產(chǎn)物是Ni,結合氧化還原反應知識,得到反應為:Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+,故答案為:Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+;
(2)在電鍍工業(yè)中,待鍍金屬做陰極,鍍層金屬做陽極,根據(jù)電鍍過程中陰極附近的pH與電鍍時間的關系圖,可以看出由于H+參與放電,導致溶液pH的變化,在陰極上,應該是金屬陽離子得電子析出金屬單質(zhì)的過程,由于氫離子參與放電,所以鍍層變薄且不均勻,故答案為:陰;H+參與放電;鍍層變薄且不均勻;
(3)根據(jù)硫酸鹽溶液中Cr3+的濃度對鍍層厚度和覆蓋范圍的影響關系,得到:Cr3+濃度增加會使鍍層加厚,但濃度增加鉻晶粒變大使覆蓋范圍變小,故答案為:Cr3+濃度增加會使鍍層加厚,但濃度增加鉻晶粒變大使覆蓋范圍變;
(4)工業(yè)上控制反應溫度的設備名稱為熱交換器;鍍鉻的過程中陽極會產(chǎn)生部分Cr2O72-,Cr2O72+具有很強的氧化性,可以和還原性雙氧水、亞硫酸鈉之間發(fā)生反應,但是C選項的硫酸亞鐵會引進雜質(zhì)離子,故選AB,故答案為:熱交換器;AB;
(5)含Cr3+為3.25g/L的電解液中,Cr3+的濃度是$\frac{\frac{3.25g}{52g/mol}}{1L}$=0.0625mol/L,根據(jù)Ksp[Cr(OH)3]=5.0×10-31=c(Cr3+)•c3(OH-),得到氫氧根離子濃度=$\root{3}{\frac{5.0×1{0}^{-31}}{0.0625}}$=2×10-10mol/L,Kw=c(H+)•c(OH-),c(H+)=$\frac{2×1{0}^{-14}}{2×1{0}^{-10}}$mol/L=10-4mol/L,所以pH=4,故答案為:4.

點評 本題涉及電解池的工作原理以及應用、難溶物的沉淀溶解平衡常數(shù)的計算等方面的知識,屬于綜合知識的考查,難度中等.

練習冊系列答案
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20.下列各對物質(zhì),相互間不屬于同系物的是( 。
A.CH3-CH═CH2與C2H4B.CH3COOCH3與CH3CH2COOCH3
C.D.CH3CH2Cl與CH3CHClCH3

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1.表為元素周期表的一部分,用化學符號回答下列問題.
ⅠAⅡAⅢAⅣAⅤAⅥAⅦA
第二周期
第三周期
第四周期
(1)元素②的單質(zhì)的結構式N≡N 元素⑧的+1價含氧酸的結構式H-O-Cl.
(2)元素①的最高價氧化物的電子式,元素③和⑤形成原子個數(shù)比為1:1的化合物的電子式,元素②、④的氣態(tài)氫化物反應后的產(chǎn)物的電子式
(3)用電子式表示元素④和⑨形成化合物的過程
(4)元素③、④、⑥、⑦對應的氣態(tài)氫化物中,穩(wěn)定性最弱的是PH3(填化學式)
(5)元素④、⑤、⑦、⑨形成的簡單離子中,半徑最大的離子的離子結構示意圖
(6)元素⑥、⑦、⑩對應的最高價氧化物的水化物中,酸性最強的是H2SO4(填化學式),250mL 1mol/L的該溶液與足量的稀氨水反應放出的熱量為Q1kJ,該反應的熱化學方程式為:H2SO4(aq)+2NH3•H2O(aq)=(NH42SO4(aq)+2H2O(l)△H=-4Q1kJ/mol,元素⑤、⑧的最高價氧化物的水化物的稀溶液反應生成1mol水時放出Q2kJ的熱量,則NH3•H2O(aq)?NH4+(aq)+OH-(aq)△H=(Q2-2Q1)kJ/mol.

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18.高良姜素是姜科植物高良姜根中的提取物,它能使鼠傷寒沙門氏菌TA98和TA100發(fā)生誘變,具有抗病菌作用.下列關于高良姜素的敘述正確的是( 。
A.高良姜素的分子式為C15H15O5
B.高良姜素分子中含有3個羥基、8個雙鍵
C.高良姜素能與碳酸鈉溶液、溴水、酸性高錳酸鉀溶液等反應
D.1mol高良姜素與足量的鈉反應生成33.6LH2

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5.W(C9H10O)是一種香料,可按下列路線合成.
C8H8$→_{H_{2}O_{2}}^{HCl}$A→B$→_{△}^{O_{2},Cu}$C$→_{稀堿}^{HCHO}$D$\stackrel{△}{→}$E$→_{催化劑}^{H_{2}}$F$→_{△}^{O_{2},Cu}$W
且已知:

(1)C8H8發(fā)生聚合反應的化學方程式為
(2)A→B的反應條件為氫氧化鈉水溶液;B→C的化學方程式為
(3)D中含有的官能團有羥基、醛基;由E→F的反應類型為加成反應
(4)香料W的結構簡式為.W有多種同分異構體,其中:①分子中有苯環(huán),且苯環(huán)上的一溴代物有兩種;②其水溶液遇FeCl3溶液呈紫色.則其可能的結構簡式為(寫兩種):
(5)依據(jù)題中信息,完成以(CH32C=CH2  為原料制取液晶材料的中間體    的合成路線圖.
合成路線圖示例如下:CH2CH2$\stackrel{HBr}{→}$CH3CH2Br$→_{△}^{NaOH溶液}$CH3CH2OH.

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15.鋁分別與足量的稀鹽酸和氫氧化鈉溶液反應,當兩個反應放出的氣體在相同狀況下體積相同時,反應中消耗的HCl和NaOH的物質(zhì)的量之比為( 。
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B.8g CH4中含有10NA個電子
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20.常溫下,下列各組離子在溶液中一定能大量共存的是( 。
A.Na+、Al3+、OH-B.Ba2+、NO3-、SO42-C.K+、Na+、NO3-D.K+、NH4+、OH-

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