15．工業(yè)上可采用電化學法利用H₂S廢氣制取氫氣，該法制氫過程的示意圖所示，回答下列問題：
（1）產(chǎn)生反應池中發(fā)生反應的化學方程式為H₂S+2FeCl₃=2FeCl₂+S↓+2HCl．
（2）反應后的溶液進入電解池，電解時陽極反應式為Fe²⁺-e^-=Fe³⁺．
（3）若電解池中生成5.6L H₂（標準狀況），則理論上在反應池中可生成S沉淀的物質的量為0.25 mol．

14．用石墨電極電解下列溶液，陰極和陽極產(chǎn)生氣體的體積比為2：1，其電解液pH不變的是（　　）

A．

NaCl

B．

H2SO4

C．

NaOH

D．

K2SO4

13．兩種氣態(tài)烴組成的混合氣體0.1mol，完全燃燒得0.16molCO₂和3.6g水，下列說法正確的是（　�。�

	A．	混合氣體中一定有甲烷		B．	混合氣體中一定是甲烷和乙烯
	C．	混合氣體中可能有乙烷		D．	混合氣體中可能有乙烯

12．某有機物的結構簡式為，下列關于該有機物的敘述不正確的是（　　）

	A．	能與金屬鈉發(fā)生反應并放出氫氣
	B．	此有機物中有三種官能團：碳碳雙鍵、羥基、甲基
	C．	能在催化劑作用下與H2發(fā)生加成反應
	D．	在濃H2SO4催化下能與乙酸發(fā)生酯化反應

11．下列分子式只表示一種物質的是（　�。�

A．

C6H12O6

B．

（C6H10O5）n

C．

C12H22O11

D．

CF2Cl2

10．現(xiàn)用質量分數(shù)為98%、密度為1.84g•cm^-3的濃硫酸來配制500mL、0.2mol•L^-1的稀硫酸．可供選擇的儀器有：①玻璃棒 ②燒瓶 ③燒杯 ④膠頭滴管 ⑤量筒 ⑥容量瓶 ⑦托盤天平 ⑧藥匙．
請回答下列問題：
（1）上述儀器中，在配制稀硫酸時用不到的有②⑦⑧（填代號）．
（2）經(jīng)計算，需濃硫酸的體積為5.4ml；
現(xiàn)有①10mL  ②50mL  ③100mL三種規(guī)格的量筒，你選用的量筒是①．（填代號）
（3）將濃硫酸加適量蒸餾水稀釋后，冷卻片刻，隨后全部轉移到500 mL的容量瓶中，轉移時應用玻璃棒引流．轉移完畢，用少量蒸餾水洗滌燒杯和玻璃棒2～3次，并將洗滌液全部轉移到容量瓶中，再加適量蒸餾水，振蕩容量瓶，使溶液混合均勻．然后緩緩地把蒸餾水直接注入容量瓶直到液面接近瓶頸刻度1～2cm處，改用膠頭滴管滴加蒸餾水到凹液面最低點與刻度線相切．塞上瓶塞、搖勻后，把溶液倒入試劑瓶、貼上標簽．
（4）在配制過程中，其他操作都準確，下列操作中，能引起誤差偏高的有③（填代號）．
①轉移前，容量瓶中含有少量蒸餾水
②定容時，加蒸餾水超過標線，又用膠頭滴管吸出
③定容時，俯視刻度線
④定容搖勻后，發(fā)現(xiàn)液面低于標線，又用膠頭滴管加蒸餾水至標線．

9．單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料．科學家預計，到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管，其功能遠比我們想象的要大的多，這對硅的純度要求很高．用化學方法可制得高純度硅，其化學方程式為：
①SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO
②Si+2Cl₂$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$SiCl₄
③SiCl₄+2H₂$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Si+4HCl．
回答下列問題：
（1）上述反應中，屬于氧化還原反應的是①②③（填序號）．
（2）反應①和③屬于C．
A．化合反應      B．分解反應       C．置換反應      D．復分解反應
（3）下列描述正確的是B．
A．氧化還原反應都是置換反應
B．判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據(jù)是否有化合價的升降
C．化合反應全部都是氧化還原反應
D．復分解反應全部都是氧化還原反應．

8．某溶液中含有CH₃COO^-、SO₄^2-、SO₃^2-、HCO₃^-、CO₃^2-等五種離子．將過量的Na₂O₂固體加入其中后，仍能大量存在的離子是（　�。�

	A．	CH3COO-、SO42-、HCO3-		B．	SO42-、SO32-、CO32-
	C．	SO32-、HCO3-		D．	CH3COO-、SO42-、CO32-

7．砹（At）是原子序數(shù)最大的鹵族元素，推測砹和砹的化合物最不可能具有的性質是（　�。�

	A．	砹化氫（HAt）很穩(wěn)定		B．	單質砹易溶于某些有機溶劑
	C．	砹的原子半徑比碘的原子半徑大		D．	單質砹是有色固體

6．下列物質溶于水后由于水解而顯酸性的是（　�。�

A．

NaHSO4

B．

NaHCO3

C．

FeCl3

D．

CH3COOH