【題目】現(xiàn)用氯水來(lái)制取含有次氯酸的溶液,既要提高溶液中HClO物質(zhì)的量濃度,又要降低溶液中HCl濃度,下列措施可以采用的是
A. 加熱揮發(fā)HCl
B. 加水使平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)
C. 再通入氯氣
D. 加CaCO3中和HCl
【答案】D
【解析】
由化學(xué)方程式Cl2+H2OHClO+HCl可知:
A、加熱平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng),但是揮發(fā)HCl的同時(shí),HClO也分解,HClO物質(zhì)的量濃度將減小,A錯(cuò)誤;
B、加水平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng),但是HCl和HClO物質(zhì)的量濃度將減小,B錯(cuò)誤;
C、再通入氯氣,平衡正向移動(dòng),氯化氫的濃度也增大,C錯(cuò)誤;
D、CaCO3與HClO不反應(yīng),卻和HCl反應(yīng),使平衡向右移動(dòng),從而提高HClO濃度,降低了HCl濃度,D正確。
答案選D。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】二氧化氯是一種黃綠色有刺激性氣味的氣體,其熔點(diǎn)為-59℃,沸點(diǎn)為11.0℃,易溶于水。工業(yè)上用稍潮濕的KC1O3和草酸(H2C2O4)在60℃時(shí)反應(yīng)制得。某學(xué)生用下圖所示的裝置模擬工業(yè)制取及收集C1O2,其中A為C1O2的發(fā)生裝置,B為C1O2的凝集裝置,C為尾氣吸收裝置。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)A中反應(yīng)產(chǎn)物有K2CO3、C1O2和CO2等,請(qǐng)寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式:________________________。
A部分還應(yīng)添加溫水浴控制溫度在60 °C,B部分還應(yīng)補(bǔ)充什么裝置:_________________。
(2)該裝置按(1)補(bǔ)充完整后,裝置A、B、C中還有一處設(shè)計(jì)明顯不合理的是_____(填“A”“B”或“C”)。
(3)C中的試劑為NaOH溶液,反應(yīng)時(shí)生成氯酸鈉和亞氯酸鈉(NaClO2),該反應(yīng)的離子方程式為____________。若實(shí)驗(yàn)時(shí)需要450 mL 4 mol L-1的NaOH溶液,則在精確配制時(shí),需要稱取NaOH的質(zhì)量是____g,所使用的儀器除托盤天平、量筒、膠頭滴管、玻璃棒外,還必須有_______。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某實(shí)驗(yàn)室模擬以工業(yè)用菱鐵礦(FeCO3)含堿式碳酸銅[Cu2(OH)2CO3]為原料制取純凈的FeCO3和氯化銅晶體(CuCl2·2H2O)的生產(chǎn)流程如下:
(1)鹽酸溶解礦物樣品時(shí)可能發(fā)生的離子方程式______。
(2)寫出向溶液A中加入NaClO的離子方程式_________。
(3)向沉淀B中依次加入鹽酸和鐵粉時(shí)可能發(fā)生的離子方程式_________。
(4)處理濾液D時(shí),除產(chǎn)生沉淀外,還產(chǎn)生無(wú)色氣體,寫出該反應(yīng)的離子方程式_________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某酸性溶液中只有Na+、CH3COO﹣、H+、OH﹣四種離子.則下列描述正確的是
A. 該溶液可由pH=3的CH3COOH與pH=11的NaOH溶液等體積混合而成
B. 該溶液可由等物質(zhì)的量濃度、等體積的NaOH溶液和CH3COOH溶液混合而成
C. 加入適量NaOH,溶液中離子濃度為c(CH3COO﹣)>c(Na+ )>c(OH﹣)>c(H+)
D. 加入適量氨水,c(CH3COO﹣)一定大于c(Na+)、c(NH4+)之和
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】室溫下,向20.00 mL 1.000 mol·L-1氨水中滴入1.000 mol·L-1鹽酸,溶液pH和溫度隨加入鹽酸體積變化曲線如圖所示。下列有關(guān)說(shuō)法正確的是
A. 氨水的電離程度a>b>c
B. a、d兩點(diǎn)的溶液,水的離子積Kw(a)>Kw(d)
C. c點(diǎn)時(shí)消耗鹽酸體積V(HCl)<20.00ml
D. d點(diǎn)時(shí)溶液溫度達(dá)到最高,之后溫度略有下降,原因是NH3·H2O電離吸熱
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某無(wú)色工業(yè)廢水中可能含有Na+、Mg2+、Al3+、Cl-、SO42-中的幾種離子。
a.取少許該廢水于試管中,加入足量的Ba(NO3)2溶液和稀硝酸,產(chǎn)生白色沉淀,充分反應(yīng)后過(guò)濾,向?yàn)V液中加入AgNO3溶液無(wú)沉淀產(chǎn)生。
b.另取10mL該廢水于試管中,滴加NaOH溶液先產(chǎn)生白色沉淀,后部分沉淀溶解生成沉淀的物質(zhì)的量隨加入NaOH的物質(zhì)的量關(guān)系如下圖所示。
根據(jù)上述實(shí)驗(yàn)和圖中數(shù)據(jù):
(1)該廢水中一定不含有的離子有________(填離子符號(hào));
(2)A點(diǎn)沉淀的化學(xué)式___________________;
(3)寫出A→B過(guò)程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:____________________________;
(4)該廢水中,c(Al3+)=________;
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】用惰性電極電解足量下列溶液一段時(shí)間后,再加入一定量括號(hào)內(nèi)的純凈物,能使溶液恢復(fù)到原來(lái)的成分和濃度的是
A. AgNO3[AgNO3] B. NaOH[NaOH] C. KCl[H2O] D. CuSO4[CuO]
【答案】D
【解析】石墨電極為惰性電極,溶液中陽(yáng)離子在陰極放電,陰離子在陽(yáng)極放電。A、電解AgNO3溶液,Ag+在陰極放電生成Ag,OH-在陽(yáng)極放電生成O2,且n(Ag)∶n(O2)=2∶1,則應(yīng)加入Ag2O恢復(fù)濃度,故A錯(cuò)誤;B、電解NaOH溶液,H+在陰極放電生成H2,OH-在陽(yáng)極放電生成O2,且n(H2)∶n(O2)=2∶1,則應(yīng)加入一定量的H2O恢復(fù)原樣,故B錯(cuò)誤;C、電解KCl溶液,H+在陰極放電生成H2,Cl-在陽(yáng)極放電生成Cl2,且n(H2)∶n(Cl2)=1∶1,則應(yīng)加入一定量HCl恢復(fù)原樣,故C錯(cuò)誤;D、電解CuSO4溶液,Cu2+在陰極放電生成Cu,OH-在陽(yáng)極放電生成O2,且n(Cu)∶n(O2)=2∶1,則應(yīng)加入一定量CuO恢復(fù)原樣,故D正確。故選D。
點(diǎn)睛:分析電解反應(yīng)的原理,在兩極析出什么物質(zhì)(固體或氣體),相當(dāng)于什么物質(zhì)脫離反應(yīng)體系,根據(jù)元素守恒和原子比例,加入對(duì)應(yīng)的物質(zhì),即可使溶液完全復(fù)原。
【題型】單選題
【結(jié)束】
28
【題目】工業(yè)上用電解法處理含鎳酸性廢水并得到單質(zhì)Ni的原理如圖所示。下列說(shuō)法不正確的是
已知:①Ni2+在弱酸性溶液中發(fā)生水解
②氧化性:Ni2+(高濃度)>H+>Ni2+(低濃度)
A. 碳棒上發(fā)生的電極反應(yīng):4OH--4e-=O2↑+2H2O
B. 電解過(guò)程中,B中NaCl溶液的物質(zhì)的量濃度將不斷減少
C. 為了提高Ni的產(chǎn)率,電解過(guò)程中需要控制廢水pH
D. 若將圖中陽(yáng)離子膜去掉,將A、B兩室合并,則電解反應(yīng)總方程式發(fā)生改變
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】甲、乙、丙、丁均為中學(xué)化學(xué)常見(jiàn)的純凈物,它們之間有如圖所示的反應(yīng)關(guān)系。下列物質(zhì)組不滿足上述轉(zhuǎn)化關(guān)系的是( )
選項(xiàng) | 甲 | 乙 | 丙 | 丁 |
A | N2 | NH3 | NO | NO2 |
B | Si | SiO2 | Na2SiO3 | Na2CO3 |
C | S | H2S | SO3 | H2SO4 |
D | Al | Al2O3 | NaAlO2 | Al(OH)3 |
A. AB. BC. CD. D
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列反應(yīng)的離子方程式中或電離方程式正確的是
A. Fe2(SO4)3溶液中加入足量Ba(OH)2溶液:Fe3++SO42-+Ba2++3OH-=Fe(OH)3↓+BaSO4↓
B. 向NaHSO4溶液中加入Ba(OH)2溶液至SO42-完全沉淀: 2H++SO42-+2OH-+Ba2+=2H2O+BaSO4↓
C. 向碳酸氫鈣溶液中加入過(guò)量氫氧化鈉:Ca2++HCO3-+OH-=CaCO3↓+H2O
D. HSO3-在水中的電離:HSO3-+H2OSO32-+ H3O+
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