(13分)已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):
⑴寫出反應②的化學方程式 。
⑵反應④中每消耗1 mol G,轉移電子的物質的量為 。
⑶反應⑥的離子方程式是 。
⑷寫出工業(yè)冶煉金屬乙的化學方程式 。
⑸實驗室中保存I的方法是 。
⑹SiCl4與過量A在加熱條件下反應可制得高純硅,整個制備純硅的過程中必須嚴格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產生白色煙霧,其生成物是 ;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是 。
科目:高中化學 來源: 題型:
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冰晶石 |
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冰晶石 |
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科目:高中化學 來源: 題型:
已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):
(1)請寫出下列物質的化學式C__________、乙_____________;
(2)分別寫出反應④⑥的化學方程式__________、________________。
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科目:高中化學 來源:2010-2011學年陜西省、西工大附中高三第七次適應性訓練(理綜)化學部分 題型:填空題
(13分)已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):
⑴寫出反應②的化學方程式 。
⑵反應④中每消耗1 mol G,轉移電子的物質的量為 。
⑶反應⑥的離子方程式是 。
⑷寫出工業(yè)冶煉金屬乙的化學方程式 。
⑸實驗室中保存I的方法是 。
⑹SiCl4與過量A在加熱條件下反應可制得高純硅,整個制備純硅的過程中必須嚴格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產生白色煙霧,其生成物是 ;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是 。
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