(13分)已知:A、B為常見的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):
⑴寫出反應(yīng)②的化學(xué)方程式 。
⑵反應(yīng)④中每消耗1 mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為 。
⑶反應(yīng)⑥的離子方程式是 。
⑷寫出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式 。
⑸實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是 。
⑹SiCl4與過量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅,整個(gè)制備純硅的過程中必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是 ;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是 。
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已知:A、B為常見的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):
(1)請(qǐng)寫出下列物質(zhì)的化學(xué)式C__________、乙_____________;
(2)分別寫出反應(yīng)④⑥的化學(xué)方程式__________、________________。
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