【題目】請根據(jù)下列實(shí)驗裝置回答問題。
(1)寫出標(biāo)有序號的儀器名稱:a_________,b_________。
(2)在實(shí)驗室中用過氧化氫溶液和二氧化錳混合制取氧氣時,其中二氧化錳起作用,發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為__________________。
(3)實(shí)驗室制取二氧化碳?xì)怏w,應(yīng)選用的發(fā)生裝置是_________(填寫裝置的字母代號,下同);檢驗二氧化碳應(yīng)選用的裝置是_________。
(4)實(shí)驗室常用氯化銨固體與堿石灰固體共熱來制取氨氣(NH3)。常溫下NH3是一種無色、有刺激性氣味的氣體,密度比空氣小,極易溶于水,對人體特別是粘膜組織有腐蝕作用。
①制取氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式:2NH4Cl+Ca(OH)2CaCl2+2NH3↑+2X。
X的化學(xué)式為:____________。
②制取并收集NH3,從上圖中選擇____________和____________。用右圖裝置收集氨氣時,觀察到現(xiàn)象說明氨氣已收滿。
③干燥時不能選用下列干燥劑中的____________(填序號)。
A.固體氫氧化鈉 B.濃硫酸 C.生石灰
【答案】(1)a、酒精燈b、鐵架臺
(2)催化2H2O22H2O+O2↑
(3)BF(4)①H2O②AE酚酞變紅③B
【解析】
試題分析:(1)常見儀器的識記:a、酒精燈b、鐵架臺
(2)在實(shí)驗室中用過氧化氫溶液和二氧化錳混合制取氧氣時,其中二氧化錳起催化作用,發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為:2H2O22H2O+O2↑
(3)氣體發(fā)生裝置的選擇依據(jù):反應(yīng)物的狀態(tài)和反應(yīng)條件,B裝置適用于固體和固體在加熱條件下反應(yīng),實(shí)驗室制取二氧化碳是利用大理石和稀鹽酸在常溫下反應(yīng),屬于“固液常溫型”,應(yīng)選用的發(fā)生裝置是B;該能將二氧化碳能使澄清石灰水變渾濁,故檢驗二氧化碳應(yīng)選用的裝置是F
(4)①根據(jù)質(zhì)量守恒定律的微觀解釋:在化學(xué)反應(yīng)前后,原子的種類、數(shù)目都不變,結(jié)合化學(xué)反應(yīng):2NH4Cl+Ca(OH)2CaCl2+2NH3+2X,可以推出X化學(xué)式為H2O
②根據(jù)上述反應(yīng)原理,制取NH3屬于“固固加熱型”,故發(fā)生裝置選擇A;氣體收集裝置的選擇依據(jù):氣體的密度和溶解性,NH3是一種密度比空氣小,極易溶于水的氣體,故收集裝置選E;由于氨氣溶于水得到氨水,氨水顯堿性,故觀察到酚酞變紅現(xiàn)象說明氨氣已收滿
③選用干燥劑時,一定不能與被干燥的氣體反應(yīng),故選B
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【題目】某同學(xué)用pH 試紙測得以下液體的pH ,實(shí)驗過程中pH 試紙變成藍(lán)色的是
A.雨水pH=6 B.食醋pH=3
C.肥皂水pH=10 D.食鹽水pH=7
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【題目】為了獲取“鐵的金屬活動性比銅強(qiáng)”的證據(jù),可以采用
A.比較鐵的利用范圍是否比銅廣 B.觀察鐵是否能置換硫酸銅溶液中的銅
C.觀察鐵表面的銹跡是否比銅多 D.比較鐵的相對原子質(zhì)量是否比銅小
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科目:初中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】空氣是一種寶貴的自然資源,空氣中體積分?jǐn)?shù)約占21%的是
A.氮?dú)?/span> B.氧氣 C.二氧化碳 D.稀有氣體
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【題目】要配制100g 5%的NaCl溶液,除了需要托盤天平和量筒外,還需要用到的一組儀器是
A. 燒杯、試管、玻璃棒
B. 燒杯、膠頭滴管、玻璃棒
C. 燒杯、膠頭滴管、漏斗
D. 燒杯、酒精燈、玻璃棒
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【題目】根據(jù)下列裝置圖,回答有關(guān)問題:
(1)實(shí)驗室用過氧化氫制取氧氣的化學(xué)方程為 ,若要制取并收集一瓶干燥的氧氣,應(yīng)選用裝置的連接順序為 (選填字母),檢驗氧氣是否收集滿的方法為 。
(2)實(shí)驗室常用鋅粒和稀硫酸反應(yīng)制取氫氣,有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為 。若用排空氣法收集,應(yīng)選用的收集裝置為 (選填字母)。
(3)實(shí)驗改進(jìn):查閱資料發(fā)現(xiàn),氧化銅可以用作過氧化氫分解制氧氣的催化劑。現(xiàn)有一根潔凈的銅絲,實(shí)驗前先將其繞成螺旋狀,再經(jīng)過 處理。改進(jìn)后的發(fā)生裝置如圖F所示(己略去夾持裝置)。
①銅絲繞成螺旋狀的作用是 。
A.收集到更多的O2 B.加快反應(yīng)速率 C.沒有影響
②與裝置A比較,改進(jìn)后裝置的優(yōu)點(diǎn)是 。
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