Question

【題目】中美貿(mào)易戰(zhàn)，華為成為焦點(diǎn)之一 。

芯片的制造代表一個(gè)國(guó)家的科技水平,我國(guó)華為公司在5G及芯片的開(kāi)發(fā)上正在努力開(kāi)拓，其中5G技術(shù)領(lǐng)先全球2-3年。芯片的主要成分是高純硅，如圖是工業(yè)上以某種石英砂（主要成分: SiO2、 Li2O、 Fe2O3） 為主要原料制取純硅和金屬鋰的一種方法。 請(qǐng)回答以下問(wèn)題。

已知： LiCl 的熔點(diǎn)是605°C、沸點(diǎn)是1350°C；NH4Cl 在100°C開(kāi)始揮發(fā)，337.8°C 分解完全，NH3和HCl在常溫下又能反應(yīng)生成NH4Cl固體。當(dāng)溶液pH=5時(shí)，Fe3+和Al3+已沉淀完全。

（1）“酸浸”步驟中能與鹽酸反應(yīng)的物質(zhì)有____________________（填化學(xué)式） 。

（2）粗硅中常含有副產(chǎn)物SiC，請(qǐng)寫(xiě)出①中生成SiC的反應(yīng)方程式__________________。

（3）反應(yīng)②的基本反應(yīng)類型是___________________________。

（4） 請(qǐng)寫(xiě)出操作名稱: a__________________； b___________________。

（5）試劑X是_____________________。

（6）要得到較純凈的LiCI和NH4Cl固體，在第二個(gè)操作a之前應(yīng)采取的措施是_______________。

Answer 1

【答案】Li2O、Fe2O3 SiO2+3CSiC+2CO↑ 置換反應(yīng) 過(guò)濾 蒸發(fā) 氨水 控制溶液的pH 為5

【解析】

（1）金屬氧化物會(huì)與酸反應(yīng)生成鹽和水，所以“酸浸”步驟中能與鹽酸反應(yīng)的物質(zhì)有Li2O、Fe2O3；
（2）二氧化硅和碳在高溫的條件下生成碳化硅和一氧化碳，化學(xué)方程式為：SiO2+3CSiC+2CO↑；
（3）反應(yīng)②是四氯化硅和氫氣在高溫的條件下生成硅和氯化氫，屬于置換反應(yīng)；
（4）過(guò)濾可以將不溶性固體從溶液中分離出來(lái)，蒸發(fā)可以將可溶性固體從溶液中分離出來(lái)；
（5）濾液和X反應(yīng)生成了氯化銨，所以X是氨水；
（6）溶液pH=5時(shí)，Fe3+和 Al3+已沉淀完全，所以在第二個(gè)操作 a 之前應(yīng)采取的措施是：控制溶液的pH 為5。
故答案為：（1）Li2O、Fe2O3；
（2）SiO2+3CSiC+2CO↑；
（3）置換反應(yīng)；
（4）過(guò)濾；蒸發(fā)；
（5）氨水；
（6）控制溶液的pH 為5。