Question

4．硅-一種重要的半導(dǎo)體材料，應(yīng)用范圍廣．三氯苯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

（1）硅屬于非金屬（填“金屬”或“非金屬”）元素；
（2）寫出上述流程中一種氧化物的化學(xué)式SiO₂；
（3）上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiHCl+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl，該反應(yīng)屬于置換反應(yīng)（基本反應(yīng)類型）；
（4）如果還原SiHCl過程中混入O₂，可能引起的后果是爆炸．
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是HCl．

Answer 1

分析 （1）根據(jù)元素的名稱分析類別；
（2）根據(jù)物質(zhì)的組成分析屬于氧化物的物質(zhì)，寫出化學(xué)式；
（3）分析流程中最后一步發(fā)生的反應(yīng)寫出發(fā)生的化學(xué)方程式，根據(jù)反應(yīng)的特點(diǎn)分析類型；
（4）根據(jù)氫氣和氧氣的混合氣體點(diǎn)燃時(shí)易發(fā)生爆炸分析回答；
（5）根據(jù)流程分析可以循環(huán)利用的物質(zhì)．

解答 解：（1）硅的名稱中帶有“石”字旁，屬于非金屬；
（2）二氧化硅是由硅元素和氧元素組成的，屬于氧化物，化學(xué)式為SiO₂；
（3）上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiHCl+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl，該反應(yīng)由一種單質(zhì)與一種化合物反應(yīng)，生成了另一種單質(zhì)和另一種化合物，屬于置換反應(yīng)；
（4）如果還原SiHCl過程中混入O₂，會(huì)形成氫氣和氧氣混合氣體，點(diǎn)燃時(shí)易引起爆炸．
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是HCl．
故答為：（1）非金屬；（2）SiO₂；（3）SiHCl+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl，置換反應(yīng)（4）爆炸；（5）HCl．

點(diǎn)評 此題主要是考查學(xué)生的綜合分析能力，不但要求學(xué)生具備有關(guān)物質(zhì)的基礎(chǔ)知識，而且要有實(shí)驗(yàn)操作的經(jīng)歷和分析、解決化學(xué)實(shí)驗(yàn)問題的能力．