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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機(jī)物,無(wú)機(jī)鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好。回答下列問(wèn)題
Ⅰ.(1)寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ,對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH一反應(yīng),生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4;诖嗽矸治龇磻(yīng)中氧化劑為 。
(2)本;瘜W(xué)興趣小組同學(xué),為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確,完成以下實(shí)驗(yàn):
|
實(shí)驗(yàn)事實(shí) |
事實(shí)一 |
水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
事實(shí)二 |
盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。 |
事實(shí)三 |
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
事實(shí)四 |
在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點(diǎn)著后燜燒,可劇烈放出H2。 |
事實(shí)五 |
1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。 |
結(jié)論:從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下,H2O可作 劑;NaOH作_____ 劑,降低反應(yīng) 。高溫?zé)o水環(huán)境下,NaOH作 劑。
Ⅱ.在工業(yè)中利用鎂制取硅:2Mg+SiO22MgO+Si,同時(shí)有副反應(yīng)發(fā)生:2Mg+SiMg2Si,Mg2Si遇鹽酸迅速反應(yīng)生成SiH4(硅烷),SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易分解的氣體。如圖是進(jìn)行Mg與SiO2反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)裝置:
由于氧氣的存在對(duì)該實(shí)驗(yàn)有較大影響,實(shí)驗(yàn)中應(yīng)通入氣體X作為保護(hù)氣,試管中的固體藥品可選用________(填序號(hào))。 a.石灰石 b.鋅粒 c.純堿
(4)實(shí)驗(yàn)開始時(shí),必須先通入X氣體,再加熱反應(yīng)物,其理由是______________________________,當(dāng)反應(yīng)開始后,移走酒精燈反應(yīng)能繼續(xù)進(jìn)行,其原因是___________________________。
(5)反應(yīng)結(jié)束后,待冷卻至常溫時(shí),往反應(yīng)后的混合物中加入稀鹽酸?捎^察到閃亮的火星,產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學(xué)方程式表示為_______________________________________。
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機(jī)物,無(wú)機(jī)鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好;卮鹣铝袉(wèn)題
Ⅰ.(1)寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ,對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH一反應(yīng),生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4;诖嗽矸治龇磻(yīng)中氧化劑為 。
(2)本;瘜W(xué)興趣小組同學(xué),為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確,完成以下實(shí)驗(yàn):
| 實(shí)驗(yàn)事實(shí) |
事實(shí)一 | 水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
事實(shí)二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。 |
事實(shí)三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
事實(shí)四 | 在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點(diǎn)著后燜燒,可劇烈放出H2。 |
事實(shí)五 | 1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。 |
1.D 2.C 3.C 4.B 5.C 6.C 7.BC 8.BD 9.AC 10.D 11.C
12.BD 13.AC 14.A 15.B 16.D 17.B 18.D 19.B 20.D
21.D 22.C w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
23.(1)促進(jìn),A (2)甲大
乙用氯化銨溶液稀釋后,[]增大很多,使的電離平衡向抑制電離的方向移動(dòng);發(fā)生水解,使稀釋后的乙溶液的[]增大
24.(1)第一種組合 A:NaOH B:
第二種組合 A: B:
。2)由于電離出,使水的電離平衡:向左移動(dòng),使水的電離度小于純水中水的電離度,而溶液中由于
由于電離出的與結(jié)合生成弱電解質(zhì),從而促進(jìn)水的電離,使水的電離度比純水中的大.
25.(1)偏高;空氣中的氧氣溶于樣品中
。2)偏高;使溶液濃度變低,消耗體積偏大
。3)偏高;使最后讀取體積數(shù)比實(shí)際消耗溶液體積數(shù)大
。4)
26.(1)增大w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
。2)K值越大,酸性越強(qiáng)
。3)
。4)上一級(jí)電離產(chǎn)生的對(duì)下一級(jí)電離有抑制作用
。5)
27.(1)和水解均呈弱酸性,可除去金屬表面的氧化物
(2)水溶液中[]很小,不會(huì)生成沉淀(或弱酸不能生成強(qiáng)酸).加入氨水時(shí),,使電離平衡右移,[]增大,產(chǎn)生沉淀(或與生成,使[]增大
。3)在HCl氣流中,抑制水解,從而可得到無(wú)水物
。4)能.,降低[],其水解平衡左移,堿性減弱
。5)水解呈堿性,水解呈酸性,二者混合施用,會(huì)促進(jìn)水解,大量生成易揮發(fā)的,從而使氮肥降低肥效
電離呈酸性,與混合施用,會(huì)產(chǎn)生或沉淀而喪失肥效.
硫銨(即硫酸銨)水解呈酸性,長(zhǎng)期施用土壤會(huì)板結(jié)酸化,加消石灰可調(diào)節(jié)酸度,防止板結(jié).
28.(1)造成測(cè)定數(shù)值偏高w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
。2)
。3)
29.(1);、
。2)1.90 2.67 5.20
(3)130
分析:(1)因?yàn)樵跐嵋褐屑尤際Cl溶液至10 mL,沉淀質(zhì)量一直為
。2)原混合物中:
的質(zhì)量
的質(zhì)量
NaOH:
①濁液中存在的:
1×0.01 mol
、消耗的:
、消耗的:
0.02 mol×4=0.08 mol
NaOH總質(zhì)量
。3)從B點(diǎn)開始,消耗的HCl:0.02 mol×3=0.06 mol
消耗的HCl:0.02 mol×2=0.04 mol
所消耗HCl溶液的體積為:
Q點(diǎn)HCl溶液總量為:30 mL+100 mL=130 mL
30.(1)
。2)
根據(jù)
過(guò)量為:
20.00 mL水樣消耗為
根據(jù)得電子數(shù)目相等,則有
相當(dāng)于
,即該水樣的
。3)
。4)A,www.ks5u.com
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