③能形成分子間氫鍵:H2O.HF.NH3 ④同位素:2H2.2H.3H. 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎�                     。

（3）本校化學興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

 

結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

 

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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                   ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎�                    。
（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 
實驗事實
事實一
水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實二
盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。
事實三
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實四
在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。
事實五
1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。
 
結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                劑；NaOH作              劑，降低反應            。高溫無水環(huán)境下，NaOH作              劑。
（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是               。
A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2；
B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；
D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                   ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎�                    。
（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：
 
實驗事實
事實一
水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實二
盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。
事實三
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實四
在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。
事實五
1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。
 
結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                劑；NaOH作              劑，降低反應            。高溫無水環(huán)境下，NaOH作              劑。
（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是               。
A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2；
B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；
D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

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三氟化氮是一種無色、無味、無毒且不可燃的氣體，在半導體加工，太陽能電池制造和液晶顯示器制造中得到廣泛應用．NF3是一種三角錐型分子，鍵角102°，沸點-129℃；可在銅的催化作用下由F2和過量NH3反應得到．
（1）寫出制備 NF3的化學反應方程式：
4NH3+3F2=NF3+3NH4F
4NH3+3F2=NF3+3NH4F
．
（2）NF3的沸點比NH3的沸點（-33℃）低得多的主要原因是
NH3分子間能形成氫鍵，NF3分子間只有范德華力
NH3分子間能形成氫鍵，NF3分子間只有范德華力
．
（3）與Cu屬于同一周期，且未成對價電子數(shù)最多的元素基態(tài)原子核外電子排布式為
1s22s22p63s23p63d54s1（或[Ar]3d54s1）
1s22s22p63s23p63d54s1（或[Ar]3d54s1）
．
（4）理論上HF、NaAlO2和NaCl按6：1：2的物質(zhì)的量之比恰好反應生成HCl、H2O和一種微溶于水的重要原料，該物質(zhì)含三種元素，則其中心原子是
Al或Al3+
Al或Al3+
，配位數(shù)為
6
6
．

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（2009?淮安二模）三氟化氮是一種無色、無味、無毒且不可燃的氣體，在半導體加工，太陽能電池制造和液晶顯示器制造中得到廣泛應用．NF3是一種三角錐型分子，鍵角102°，沸點-129℃；可在銅的催化作用下由F2和過量NH3反應得到．
（1）寫出制備 NF3的化學反應方程式：
4NH3+3F2=NF3+3NH4F
4NH3+3F2=NF3+3NH4F
．
（2）NF3的沸點比NH3的沸點（-33℃）低得多的主要原因是
NH3能形成氫鍵，NF3只有范德華力
NH3能形成氫鍵，NF3只有范德華力
．
（3）與銅屬于同一周期，且未成對價電子數(shù)最多的元素基態(tài)原子核外電子排布式為
1s22s22p63s23p63d54s1
1s22s22p63s23p63d54s1
．
（4）理論上HF、NaAlO2和NaCl按6：1：2的物質(zhì)的量之比恰好反應生成HCl、H2O和一種微溶于水的重要原料，該物質(zhì)含有三種元素，則其中心離子是
Al
Al
，配位數(shù)為
6
6
．
（5）根據(jù)下列五種元素的第一至第四電離能數(shù)據(jù)（單位：kJ?mol-1 ），回答下面各題：
元素代號 I1 I2 I3 I4
Q 2080 4000 6100 9400
R 500 4600 6900 9500
S 740 1500 7700 10500
T 580 1800 2700 11600
U 420 3100 4400 5900
①在周期表中，最可能處于同一族的是
R
R
和
U
U
．
②T元素最可能是
P
P
區(qū)元素．若T為第二周期元素，F(xiàn)是第三周期元素中原子半徑最小的元素，則T、F形成化合物的空間構型為
平面正三角形
平面正三角形
，其中心原子的雜化方式為
sp2
sp2
．

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1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

B

D

D

C

A

C

A

A

B

C

11

12

13

14

15

16

17

18

19

20

A

B

AD

B

B

CD

D

C

D

B

21.(4分)BCD

22.(5分)④⑥①③ 

23、（10分）（1）右（2分），左手拿藥匙，右手輕拍左手的手腕，讓藥匙中的藥品輕輕灑落，直到加足藥品（3分）。

（2）砝碼放在左邊，燒杯放在右邊（2分），27.4g（3分）

24.(9分)⑴abcd  (3分)  （2） ①(3分)2P(s)+3Cl2(g)=2PCl3(g)  △H=－612kJ/mol

②(3分)PCl5(g)=PCl3(g)+Cl2(g)   △H=＋93kJ/mol

25．(12分)⑴Ag+  (2分)

⑵Al3+  (2分)   AIO2― + 2H2O + CO2 = Al(OH)3↓+ HCO3－  (2分)

⑶NO3－  (2分)

⑷不能  (2分)  H+和NO3－能把 Fe2+ 氧化為Fe3+  (2分)

26．(14分)（1）C F G   （2分）  

（2）6Fe2+  + ClO3― +  6 H+ ＝ 6Fe3+  +  Cl― + 3H2O （4分），

不影響（2分）                                  

（3）坩堝（2分）

（4）

×2×56g/mol×  ÷g×100%  （4分）

 

27．（14分）

（1）使Ca2+、Al3+、Fe3+浸出（或使Ca2+、Al3+、Fe3+溶解）（3分）

（2）Ca2++(NH4)2C2O4 = CaC2O4↓+2NH4+（3分）

（3）Fe(OH)3、Al(OH)3（各1分，共2分）

（4）Fe3++3SCN―Fe(SCN)3（寫成其它正確的絡合離子形式給分，2分）

（5）使Fe3+轉(zhuǎn)化為Fe(OH)3沉淀（2分）；

⑹檢驗Al3+（或鋁元素）存在 （2分）。

28.(12分) ⑴將含氰化合物全部轉(zhuǎn)化為CN -(2分)          

⑵完全吸收HCN，防止氣體放空(2分)

⑶防止倒吸(2分)       

⑷偏高 (2分)     

⑸109.2(4分)

 

 

 

 

 

 


同步練習冊答案