晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:
已知SiHCl
3能與H
2O強烈反應(yīng),生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式
.
(2)在生成SiHCl
3的反應(yīng)中,還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為
14:1
14:1
.
(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發(fā)生的反應(yīng)是
3SiHCl
3+3H
2O=H
2SiO
3+H
2↑+3HCl、C+H
2O
CO+H
23SiHCl
3+3H
2O=H
2SiO
3+H
2↑+3HCl、C+H
2O
CO+H
2.
(4)下列關(guān)于硅及其化合物的敘述錯誤的是
B C D
B C D
(填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
B.用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質(zhì)相似,在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D.SiO
2和CO
2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應(yīng),而不與任何酸反應(yīng).