Question

（2012?資陽(yáng)三模）下列說法正確的是（　　）

A．一用透明的標(biāo)準(zhǔn)平面樣板檢查光學(xué)平面的平整程度是利用光的偏振現(xiàn)象

B．光導(dǎo)纖維內(nèi)芯的折射率比外套小，光傳播時(shí)在內(nèi)芯與外套的界面發(fā)生全反射

C．超過極限頻率的入射光頻率越高，對(duì)同一金屬所產(chǎn)生的光電子的最大初動(dòng)能越大

D．在研究雙縫干涉現(xiàn)象的實(shí)驗(yàn)裝置中，僅將屏移近雙縫，則干涉條紋間距變寬

Answer 1

分析：一用透明的標(biāo)準(zhǔn)平面樣板檢查光學(xué)平面的平整程度是利用光的干涉現(xiàn)象；光發(fā)生全反射的條件是從光密介質(zhì)進(jìn)入光疏介質(zhì)，入射角大于等于臨界角；根據(jù)光電效應(yīng)方程判斷光電子的最大初動(dòng)能與入射光頻率的關(guān)系；根據(jù)雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ判斷條紋間距的變化．

解答：解：A、一用透明的標(biāo)準(zhǔn)平面樣板檢查光學(xué)平面的平整程度是利用光的干涉現(xiàn)象．故A錯(cuò)誤．
B、光傳播時(shí)在內(nèi)芯與外套的界面發(fā)生全反射，從全反射的條件知，光導(dǎo)纖維內(nèi)芯的折射率大于外套的折射率．故B錯(cuò)誤．
C、根據(jù)光電效應(yīng)方程E_Km=hv-W₀知，入射光的頻率越高，光電子的最大初動(dòng)能越大．故C正確．
D、根據(jù)雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ知，將屏移近雙縫，L減小，則干涉條紋的間距變窄．故D錯(cuò)誤．
故選C．

點(diǎn)評(píng)：本題考查了光的薄膜干涉、雙縫干涉以及全反射和光電效應(yīng)，難度不大，關(guān)鍵掌握這些基礎(chǔ)知識(shí)點(diǎn)的基本規(guī)律，就很容易解決．