5.如圖所示,水平放置的圓盤半徑為R=1m,在其邊緣C點(diǎn)固定一個(gè)高度不計(jì)的小桶,在圓盤直徑CD的正上方放置一條水平滑道AB,滑道AB與CD平行.滑道右端B與圓盤圓心O在同一豎直線上,其高度差為h=1.25m.在滑道左端靜止放置一質(zhì)量為m=0.4kg的物塊(可視為質(zhì)點(diǎn)),物塊與滑道間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ=0.2.當(dāng)用一大小為F=4N的水平向右拉力拉動(dòng)物塊的同時(shí),圓盤從圖示位置以角速度ω=2π rad/s,繞盤心O在水平面內(nèi)勻速轉(zhuǎn)動(dòng),拉力作用一段時(shí)間后撤掉,物塊在滑道上繼續(xù)滑行,由B點(diǎn)水平拋出,恰好落入小桶內(nèi).重力加速度g=10m/s2.求
(1)拉力作用的最短時(shí)間;
(2)若拉力作用時(shí)間為0.5s,滑塊會(huì)落入小桶嗎?若能,求所需滑道的長度.
(3)物塊落入桶中后如果隨圓盤一起以ω=$\sqrt{\frac{15}{2}}$rad/s勻速轉(zhuǎn)動(dòng),小桶給物塊的水平方向作用力大小.

分析 (1)若圓盤轉(zhuǎn)一圈,物塊恰好調(diào)入小桶,此時(shí)作用力時(shí)間最短.圓盤轉(zhuǎn)一圈的時(shí)間與勻加速運(yùn)動(dòng)、勻減速運(yùn)動(dòng)、平拋運(yùn)動(dòng)三個(gè)時(shí)間之和相等.
(2)物塊離開B點(diǎn)后做平拋運(yùn)動(dòng),可以求出平拋運(yùn)動(dòng)的時(shí)間和平拋運(yùn)動(dòng)的初速度,物塊在滑道上先勻加速運(yùn)動(dòng)再勻減速運(yùn)動(dòng),兩個(gè)運(yùn)動(dòng)的位移之和為滑道的長度.
(3)小桶水平方向給物塊的作用力提供向心力,根據(jù)牛頓第二定律求出水平方向的作用力,再由力的合成求解.

解答 解:(1)物塊由B點(diǎn)拋出后做平拋運(yùn)動(dòng),在豎直方向有:
h=$\frac{1}{2}$gt2
物塊離開滑到的速度:v=$\frac{R}{t}$=2m/s
拉動(dòng)物塊時(shí)的加速度,由牛頓第二定律:F-μmg=ma1
得:a1=8m/s2,
圓盤轉(zhuǎn)過一周時(shí)落入,拉力作用時(shí)間最短;盤轉(zhuǎn)過一圈的時(shí)間:
T=$\frac{2π}{ω}$=1s
物塊在滑道導(dǎo)航先加速后減速:v=a1t1-a2t2
物塊滑行時(shí)間、拋出在空中時(shí)間與圓盤周期關(guān)系:t1+t2+t=T
由上面兩式聯(lián)立得:t1=0.3s
(2)拉力作用時(shí)間為0.5s>0.3s,能落入小桶,
物塊加速獲得速度:v1=a1t=4m/s
滑塊撤去F滑行時(shí)間為:t′=$\frac{v-{v}_{0}}{{a}_{2}}$=1s
則板長為:L=x1+x2=$\frac{1}{2}$a1t12+$\frac{{v}^{2}-{{v}_{1}}^{2}}{2{a}_{2}}$=4m
(3)小桶水平方向給物塊的作用力提供向心力,有:Fx=mω2R=0.4×$\frac{15}{2}$×1N=3N
豎直方向給物塊的作用力與重力等大反向,即為:Fy=4N,
則小桶給物塊的作用力:F=$\sqrt{{{F}_{x}}^{2}+{{F}_{y}}^{2}}=\sqrt{{3}^{2}+{4}^{2}}$N=5N;
答:
(1)拉力作用的最短時(shí)間為0.3s;
(2)若拉力作用時(shí)間為0.5s,能落入小桶,所需滑道的長度為4m.
(3)小桶給物塊的作用力大小5N.

點(diǎn)評 解決本題的關(guān)鍵知道物塊整個(gè)過程的運(yùn)動(dòng):勻加速直線運(yùn)動(dòng)、勻減速直線運(yùn)動(dòng)和平拋運(yùn)動(dòng),知道三個(gè)過程的運(yùn)動(dòng)時(shí)間與圓盤轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)間相等.以及熟練運(yùn)用運(yùn)動(dòng)學(xué)公式.

練習(xí)冊系列答案
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A.甲、乙兩圖中A均受摩擦力,且方向均與F相同
B.甲、乙兩圖中A均受摩擦力,且方向均與F相反
C.甲、乙兩圖中A均不受摩擦力
D.甲圖中A不受摩擦力,乙圖中A受摩擦力,方向均與F相同

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A.用強(qiáng)度大的光照射的金屬,逸出的光電子的初動(dòng)能一定大
B.由于兩束光的頻率相同,照射兩種金屬逸出光電子的最大初動(dòng)能一定相同
C.在相同時(shí)間內(nèi),用強(qiáng)度較大的光照射金屬表面逸出的光電子數(shù)較少
D.在相同時(shí)間內(nèi),用強(qiáng)度較大的光照射的金屬逸出的光電子數(shù)較多

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A.先后照射雙縫千涉實(shí)驗(yàn)裝置,在縫后屏上都能出現(xiàn)干涉條紋,由此確定光是橫波
B.先后照射雙縫千涉實(shí)驗(yàn)裝置,a光在縫后屏上都能出現(xiàn)干涉條紋間距更大
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