100mL0.1mol·L^-1醋酸與50mL0.2mol·L^-1NaOH溶液混合，在所得混合液中()

Ａ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)＞c(H^＋)

Ｂ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(H^＋)＞c(OH^-)

Ｃ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(H^＋)=c(OH^-)

Ｄ.c(Na^＋)=c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)

關于鹽類水解反應的說法正確的是()

A.溶液呈中性的鹽一定是強酸與強堿生成的鹽

B.含有弱酸根離子的鹽的水溶液一定呈堿性

C.鹽溶液的酸堿性主要決定于形成鹽的酸堿性的相對強弱

D.同濃度的NH₄Cl和NaClpH之和大于14

室溫時，若0.1mol·L^-1NaX溶液的pH=9，該溶液中發(fā)生水解反應的X^-占全部X^-的物質(zhì)的量分數(shù)為多少？

為了使Na₂S溶液中c（Na⁺）/c（S^2-）的比值變小，可以加入的物質(zhì)是（）

A.適量鹽酸B.適量NaOH溶液C.適量KOH溶液D.適量KHS溶液

在10 mL 0.1 mol·L^-1NaOH溶液中加入同體積、同濃度CH₃COOH溶液，反應后溶液中各微粒的濃度關系錯誤的是（    ）

A．c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(H⁺)＞c(OH^-)

B．c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)＞c(H⁺)

C．c(Na⁺)＝c(CH₃COO^-)＋c(CH₃COOH)

D．c(Na⁺)＋c(H⁺)＝c(CH₃COO^-)＋c(OH^-)

常溫下，下列各溶液的敘述中正確的是（    ）

A.0.1 mol·L^-1的醋酸鈉溶液20 mL與0.1 mol·L^-1鹽酸10 mL混合后溶液顯酸性

c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(Cl^-)＞c(H⁺)＞c(CH₃COOH)

B.pH=7的醋酸鈉和醋酸混合液中：c(Na⁺)＝c(CH₃COO^-)

C.0.1 mol·L^-1的醋酸的pH＝a，0.01 mol·L^-1的醋酸的pH＝b，則a＋1＜b

D.已知酸性HF＞CH₃COOH，pH相等的NaF與CH₃COOK溶液中，c(Na⁺)-c(F^-)＜c(K⁺)-c(CH₃COO^-)

有①Na₂CO₃溶液 ②CH₃COONa溶液 ③NaOH溶液各25 mL，物質(zhì)的量濃度均為0.1 mol·L^-1，下列說法正確的是(    )

A.3種溶液pH的大小順序是③＞②＞①

B.若將3種溶液稀釋相同倍數(shù)，pH變化最大的是②

C.若分別加入25 mL 0.1 mol·L^-1鹽酸后，pH最大的是①

D.若3種溶液的pH均為9，則物質(zhì)的量濃度的大小順序是③＞①＞②

在一支10mL試管中充滿NO2和O2的混合氣體，將其倒立于盛滿足量水的水槽中。若x表示原混合氣體中NO2的體積（mL），y表示完全反應后試管中剩余氣體的體積（mL）。試以x為橫坐標，y為縱坐標，在坐標系中表示出x與y的曲線關系。

硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

    ①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式        。

    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式           ；H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有關硅材料的說法正確的是         (填字母)。

      A．碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

      B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

      C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

      D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

      E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋          。

下列表示式正確的是                         （    ）

       A．氨分子的電子式 

       B．氫氧根離子的電子式 

       C．乙酸的結(jié)構(gòu)簡式  C₂H₄O₂

       D．苯的實驗式  C₆H₆