由鉀和氧組成的某種離子晶體中含鉀的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為78/126，其陰離子只有過氧離子(O₂^2－)和超氧離子(O₂^－)兩種。在此晶體中，過氧離子和超氧離子的物質(zhì)的量之比為

A. 21           B. 11         C. 12          D. 13

氮化硅是一種高溫陶瓷材料，它的硬度大、熔點(diǎn)高、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，工業(yè)上曾普遍采用高純硅與純氮在13000C反應(yīng)獲得。

(1)氮化硅晶體屬于______________晶體。

(2)已知氮化硅的晶體結(jié)構(gòu)中，原子間都以單鍵相連，且N原子和N原子，Si原子與Si原子不直接相連，同時(shí)每個(gè)原子都滿足8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，請(qǐng)寫出氮化硅的化學(xué)式_______.

(3)現(xiàn)用四氯化硅和氮?dú)庠跉錃鈿夥毡Ｗo(hù)下，加強(qiáng)熱發(fā)生反應(yīng)，可得到較高純度的氮化硅。反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________.

(08杭州第十中學(xué)月考)下圖是某有機(jī)物分子的比例模型，有關(guān)該物質(zhì)的推斷不正確的是（）

A．分子中可能含有羥基     

B．分子中可能含有羧基

C．分子中可能含有氨基     

D．該物質(zhì)的分子式可能為C₃H₆O₃

圖為晶體硼的基本結(jié)構(gòu)單元，已知它為正二十面體(有二十個(gè)等邊三角形和一定數(shù)目的頂角)，每一個(gè)頂點(diǎn)各有一個(gè)硼原子，通過觀察，此基本結(jié)構(gòu)單元由多少硼原子構(gòu)成？

圖為金剛石的晶體結(jié)構(gòu)。每個(gè)C原子、每條C―C鍵被多少個(gè)六元環(huán)共用？

碳化硅（SiC）的一種晶體具有類似金剛石的結(jié)構(gòu)，其中碳原子和硅原子的位置是交替的。在下列三種晶體①金剛石②晶體硅③碳化硅中，它們的熔點(diǎn)從高到低的順序是

A. ①③②         B. ②③①       C. ③①②       D. ②①③

氮化硅是一種新合成的結(jié)構(gòu)材料，它是一種超硬、耐磨、耐高溫的物質(zhì)。下列各組物質(zhì)熔化時(shí)，所克服的微粒間的作用力與氮化硅熔化所克服的微粒間的作用力都相同的是

A、硝石和金剛石    B、晶體硅和水晶   C、冰和干冰     D、萘和蒽

2003年美國《科學(xué)》雜志報(bào)道：在超高壓下，科學(xué)家用激光器將CO₂加熱到1800K，成功制得了類似石英的CO₂原子晶體。下列關(guān)于CO₂晶體的敘述中不正確的是

A.　晶體中C、O原子個(gè)數(shù)比為1∶2

B.　該晶體的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)高、硬度大

C.　晶體中C―O―C鍵角為180°

D.　晶體中C、O原子最外層都滿足8電子結(jié)構(gòu)

將SiCl₄與過量的液氨反應(yīng)可生成化合物Si(NH₂)₄。將該化合物在無氧條件下高溫灼燒，可得到氮化硅（Si₃N₄）固體，氧化硅是一種新型的耐高溫、耐磨材料，在工業(yè)上有廣泛的應(yīng)用。則氮化硅所屬的晶體類型是

A.　原子晶體　　B.　分子晶體     C.　離子晶體　　D.　金屬晶體

石墨晶體是層狀結(jié)構(gòu)，在每一層內(nèi)；每一個(gè)碳原于都跟其他3個(gè)碳原子相結(jié)合，如圖是其晶體結(jié)構(gòu)的俯視圖，則圖中7
個(gè)六元環(huán)完全占有的碳原子數(shù)是

    A.10個(gè)    B.18個(gè)   C.24個(gè)    D.14個(gè)