單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料�？茖W(xué)家預(yù)計(jì)，到2011年一個(gè)電腦芯片上將會集成10億個(gè)晶體管，其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大的多，這對硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅，其化學(xué)方程式為 ：①SiO2 + 2C Si + 2CO；②Si + 2Cl2SiCl4；③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl，其中反應(yīng)①和③屬于( )

A．化合反應(yīng) B．分解反應(yīng) C．置換反應(yīng) D．復(fù)分解反應(yīng)

化學(xué)概念在邏輯上存在如下關(guān)系：

對下列概念的說法正確的是( )

A．化合物與電解質(zhì)屬于重疊關(guān)系

B．化合物與堿性氧化物屬于交叉關(guān)系

C．溶液與膠體屬于并列關(guān)系

D．離子化合物和電解質(zhì)屬于交叉關(guān)系

下列說法中，正確的是( )

A．酸性氧化物都不與酸溶液反應(yīng)

B．陶瓷、水泥及所有的玻璃都是硅酸鹽產(chǎn)品

C．某些非金屬單質(zhì)既能與酸反應(yīng)也能與堿反應(yīng)

D．硅酸鹽都是難溶于水的

下列物質(zhì)均屬于電解質(zhì)的一組是

A． NaCl、BaSO4 B．CH4、NH3 C．Al、Fe、Cu D．C2H5OH、CuSO4

常溫下，下列各組離子在指定溶液中一定能大量共存的是

A．pH＝1的溶液中：Fe2＋、NO3-、SO42-、Na＋

B．無色溶液中：K＋、Fe3＋、SO42-、SCN－

C．c (H＋)/c (OH－) = 1012 的溶液中：NH4+、Al3＋、NO3-、Cl－

D．由水電離的c (H＋)＝1×10－14 mol/L的溶液中：Ca2＋、K＋、Cl－、HCO3-

將5 mol/L的鹽酸10 mL稀釋到100 mL，再從中取出5 mL，這5 mL溶液的物質(zhì)的量濃度為

A．0．5 mol/L B．0．25 mol/L C．5 mol/L D．1 mol/L

在元素周期表中，主族元素自ⅢA族的硼到ⅦA族的砹連一條斜線，即為金屬和非金屬的分界線，從分界線附近可以找到( )

A．耐高溫材料 B．半導(dǎo)體材料 C．新型農(nóng)藥材料 D．新型催化劑材料

下列說法中正確的是(NA為阿伏加德羅常數(shù))

A．78 gNa2O2晶體中所含陰陽離子個(gè)數(shù)均為2NA

B．1.5 g CH3+中含有的電子數(shù)為NA

C．3.4 g氨中含有0.6NA個(gè)N—H鍵

D．常溫下，100 mL1 mol·L-1AlCl3溶液中陽離子總數(shù)小于0.1NA

在氯水中存在多種分子和離子，它們在不同的反應(yīng)中表現(xiàn)各自的性質(zhì)。下列現(xiàn)象和結(jié)論一致且正確的是

A．加入有色布條，有色布條褪色，說明溶液中有Cl2存在

B．溶液呈黃綠色，且有刺激性氣味，說明有Cl2分子存在

C．先加入鹽酸酸化，再加入AgNO3溶液產(chǎn)生白色沉淀，說明有Cl－存在

D．加入NaOH溶液，氯水黃綠色消失，說明有HClO

氯仿(CHCl3)可作全身麻醉劑，但在光照下易被氧化生成光氣(COCl2)：2CHCl3＋O22COCl2＋2HCl。COCl2易爆炸，為防止事故，使用前應(yīng)先檢驗(yàn)是否變質(zhì)，你認(rèn)為檢驗(yàn)用的最佳試劑是( )

A．燒堿溶液 B．溴水 C．AgNO3溶液 D．淀粉KI試劑