(2009?泰州模擬)高純超凈特種氣體主要用于制造半導(dǎo)體器件、化合物半導(dǎo)體、激光器、光導(dǎo)纖維、太陽能電池等.超純硅化氫制備方法如下:(已知:常溫下SiH
4難溶于水,與稀硫酸不反應(yīng),乙醚沸點(diǎn)34.6℃)
①由下列兩種方法制得SiH
4方法一:Mg
2Si+4NH
4Cl
SiH
4+2MgCl
2+4NH
3方法二:LiAlH
4+SiCl
4SiH
4+AlCl
3+LiCl
②除去SiH
4中混有的雜質(zhì)氣體
請回答下列問題:
(1)對方法一的理解,有同學(xué)認(rèn)為是NH
4+水解產(chǎn)生H
+,Mg
2Si與H
+反應(yīng)生成SiH
4,你認(rèn)為該觀點(diǎn)是否正確?并簡述理由
不正確,因?yàn)樵摲磻?yīng)在液氨中進(jìn)行,非水體系,不會水解
不正確,因?yàn)樵摲磻?yīng)在液氨中進(jìn)行,非水體系,不會水解
.
(2)將方法二的固體產(chǎn)物溶于水,只有一種物質(zhì)能促進(jìn)水的電離,則NaOH、Mg(OH)
2、LiOH堿性由強(qiáng)到弱的順序?yàn)?!--BA-->
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
.
(3)兩種方法制得的SiH
4中均含有少量雜質(zhì),有同學(xué)提出用下列方法除去SiH
4中的雜質(zhì),其中肯定不可行是
b
b
.
a.用稀硫酸洗氣 b.高溫使雜質(zhì)分解 c.低溫分餾
(4)甲、乙、丙三同學(xué)在討論SiH
4制備方法的化學(xué)反應(yīng)類型時發(fā)表如下觀點(diǎn),你認(rèn)為正確的是
bc
bc
.
a.甲同學(xué)認(rèn)為兩個反應(yīng)均為氧化還原反應(yīng)
b.乙同學(xué)認(rèn)為兩個反應(yīng)中只有一個屬于氧化還原反應(yīng)
c.丙同學(xué)認(rèn)為要判斷是否屬于氧化還原反應(yīng),還需要知道SiH
4中各元素具體的化合價.