【題目】某有機物中有一個苯環(huán)、一個﹣C3H7、一個﹣OH,則它屬于酚類的結(jié)構(gòu)可能有
A.3種B.4種C.5種D.6種
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【題目】已知晶體硼的基本結(jié)構(gòu)單元是由硼原子組成的正二十面體(如圖所示)。其中有二十個等邊三角形的面和一定數(shù)目的頂點,每個頂點各有一個硼原子,則這個基本結(jié)構(gòu)單元由個硼原子構(gòu)成,共含有個B—B鍵。
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【題目】下列有關除雜質(zhì)(括號中為雜質(zhì))的操作中,錯誤的是( )
A. 乙醇(水):加新制生石灰,蒸餾,收集餾出物
B. 溴乙烷(乙醇):多次加水振蕩,分液,棄水層
C. 苯(苯酚):加溴水,振蕩,過濾除去沉淀
D. 乙酸乙酯(乙酸):加飽和碳酸鈉溶液,充分振蕩,分液,棄水層
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【題目】對于敞口容器中的化學反應:Zn(s)+H2SO4(aq)=ZnSO4(aq)+H2(g),下列敘述中不正確的是( )
A.Zn和H2SO4的總能量大于ZnSO4和H2的總能量
B.反應過程中能量關系可用上圖表示
C.若將該反應設計成原電池,則Zn為負極
D.若將該反應設計成原電池,當有32.5g鋅溶解時正極放出11.2 L氣體
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【題目】硅是帶來人類文明的重要元素之一,從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中創(chuàng)造了一個有一個奇跡.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔點高、硬度大、化學性質(zhì)穩(wěn)定.工業(yè)上可以采用化學氣相沉積法,在H2的保護下,使SiCl4與N2反應生成Si3N4沉積在石墨表面,寫出該反應的化學方程式 .
(2)一種用工業(yè)硅(含少量鉀、鈉、鐵、銅的氧化物),已知硅的熔點是1420℃,高溫下氧氣及水蒸氣能明顯腐蝕氮化硅.一種合成氮化硅的工藝主要流程如圖:
①凈化N2和H2時,銅屑的作用是:;硅膠的作用是 .
②在氮化爐中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=﹣727.5kJ/mol,開始時為什么要嚴格控制氮氣的流速以控制溫度;體系中要通入適量的氫氣是為了 .
③X可能是(選填:“鹽酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氫氟酸”).
(3)工業(yè)上可以通過如圖所示的流程制取純硅:
①整個制備過程必須嚴格控制無水無氧.SiHCl3遇水劇烈反應,寫出該反應的化學方程式 .
②假設每一輪次制備1mol純硅,且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失,反應Ⅰ中HCl的利用率為90%,反應Ⅱ中H2的利用率為93.75%.則在第二輪次的生產(chǎn)中,補充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比是 .
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【題目】回答下列各題:
(1)①H2~H2、②H2O~H2O、③CH3OH~H2O、④CCl4~H2O,上述各對分子之間只存在范德華力的有 , 存在氫鍵的有。(填序號)
(2)在物質(zhì)①苯、②NH3、③C3H8、④ 、⑤對羥基苯甲醛、⑥CH3CH2OH中,能形成分子間氫鍵的有 , 能形成分子內(nèi)氫鍵的有 , 不能形成氫鍵的有。(填序號)
(3)在晶體①NaCl、②干冰、③金剛石、④金屬鈉中,其構(gòu)成微粒之間的作用力分別是、、、。其中熔點最高的是 , 最低的是(填序號)。
(4)冰融化時,要克服H2O分子間的和。硫粉溶于CS2時依靠它們之間的作用。
(5)在NCl3、PCl3、AsCl3、SbCl3中沸點最低的是;在KF、KCl、KBr、KI中,熔點最高的是。
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【題目】下列解釋實驗過程或事實的反應方程式不正確的是( )
A.熔融燒堿時,不能使用普通石英坩堝:SiO2+2NaOH Na2SiO3+H2O
B.在海帶灰的浸出液(含有I﹣)中滴加H2O2得到I2:2I﹣+H2O2+2H+═I2+O2↑+2H2O
C.紅熱的鐵絲與水接觸,表面形成藍黑色(或黑色)保護層:3Fe+4H2O(g) Fe3O4+4H2
D.“84消毒液”(有效成分NaClO)和“潔廁靈“(主要成分鹽酸)混合使用放出氯氣:ClO﹣+Cl﹣+2H+═Cl2↑+H2O
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【題目】設NA為阿伏伽德羅常數(shù)的值.下列說法正確的是( )
A.高溫下,0.2 mol Fe與足量水蒸氣反應,生成的H2分子數(shù)目為0.3NA
B.室溫下,1 L pH=13的NaOH溶液中,由水電離的OH﹣離子數(shù)目為0.1NA
C.氫氧燃料電池正極消耗22.4 L(標準狀況)氣體時,電路中通過的電子數(shù)目為2NA
D.5NH4NO3 2HNO3+4N2↑+9H2O反應中,生成28 g N2時,轉(zhuǎn)移的電子數(shù)目為3.75NA
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【題目】生產(chǎn)上用過量燒堿溶液處理某礦物(含Al2O3、MgO),過濾后得到濾液用NaHCO3溶液處理,測得溶液pH和Al(OH)3生成的量隨加入NaHCO3溶液體積變化的曲線如下:下列有關說法不正確的是( )
A.NaHCO3溶液的物質(zhì)的量濃度為0.8 mol/L
B.b點與c點溶液所含微粒種類相同
C.a點溶液中存在的離子是Na+、AlO2﹣、OH﹣、H+
D.生成沉淀的離子方程式為:HCO3﹣+AlO2﹣+H2O═Al(OH)3↓+CO32﹣
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