下列制備金屬單質(zhì)的方法或原理正確的是( 。
A、在高溫條件下,用H2還原MgO制備單質(zhì)MgB、在通電條件下,電解熔融Al2O3制備單質(zhì)AlC、在通電條件下,電解飽和食鹽水制備單質(zhì)NaD、加強(qiáng)熱,使CuO在高溫條件下分解制備單質(zhì)Cu
分析:金屬的活潑性不同,冶煉方法不同,K、Ca、Na、Mg、Al等金屬可用電解熔融的化合物的方法冶煉,Zn、Fe、Sn、Pb、Cu可用熱還原發(fā)生冶煉,Hg、Ag可用也分解法冶煉,以此解答.
解答:解:A.制備單質(zhì)Mg應(yīng)該用電解熔融MgCl2的方法,故A錯誤;
B.Al為活潑金屬,應(yīng)用電解熔融Al2O3制備,故B正確;
C.制備單質(zhì)Na采用電解熔融NaCl的方法,電解溶液生成氫氧化鈉、氫氣和氯氣,故C錯誤;
D.制備單質(zhì)Cu用熱還原法制備,故D錯誤.
故選:B.
點評:本題考查金屬的冶煉,難度不大,注意把握金屬的活潑性與冶煉方法的關(guān)系,學(xué)習(xí)中注意積累,易錯點為C,注意電解飽和食鹽水不能得到金屬鈉.
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

(I)下圖是一些常見的單質(zhì).化合物之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系圖,有些反應(yīng)中的部分物質(zhì)被略去.A為含14個電子的雙原子分子,C.E為金屬單質(zhì),B化合物中含E原子質(zhì)量含量為70%.反應(yīng)①②均為工業(yè)上的重要反應(yīng).

請回答下列問題:
(1)D的電子式為

(2)K的化學(xué)式為
FeCl3
FeCl3

(3)寫出B與C高溫反應(yīng)生成E和F的化學(xué)方程式:
Fe2O3+Al
 高溫 
.
 
Fe+Al2O3
Fe2O3+Al
 高溫 
.
 
Fe+Al2O3

(4)寫出D與J的稀溶液反應(yīng)生成G的離子方程式:
CO2+OH-=HCO3-
CO2+OH-=HCO3-

(5)I→L的離子方程式
Al3++4OH-=AlO2-+2H2O
Al3++4OH-=AlO2-+2H2O

(II)隨著尖端技術(shù)的發(fā)展,氟的用途日益廣泛,如用F2將UF4氧化成UF6,然后用氣體擴(kuò)散法使鈾的同位素235U和238U分離.而氟單質(zhì)的制備通常采用電解氧化法.下圖是電解熔融的氟氫化鉀(KHF2)和無水氟化氫的混合物,其裝置如圖:
(1)已知陰極的反應(yīng)為:2HF2-+2e-=H2+4F-則電解的總反應(yīng)為:
2KHF2
 電解 
.
 
2KF+H2↑+F2
2KHF2
 電解 
.
 
2KF+H2↑+F2

(2)出口1是(寫化學(xué)式,下同)
F2
F2
,出口2是
H2
H2

(3)在電解質(zhì)的熔鹽中常加入另一種氟化物(AlF3),他的作用是①減少HF的揮發(fā)②
降低電解質(zhì)的熔點
降低電解質(zhì)的熔點

(4)隨著電解的進(jìn)行有一種物質(zhì)會不斷被消耗,需要從入口處進(jìn)行補(bǔ)充,則從入口處加入的物質(zhì)是(寫化學(xué)式)
HF
HF

(5)化學(xué)家Karl Chrite首次用化學(xué)方法制的氟,這是1986年合成化學(xué)研究上的一大突破.具體制法為:
①4KMnO4+4KF+20HF=4K2MnF6+10H2O+3O2
②SbCl5+5HF=SbF5+5HCl
③2K2MnF6+4SbF5
 423K 
.
 
4KSbF6+2MnF3+F2
則下列說法正確的是
C
C

A.反應(yīng)①中KMnO4既是氧化劑又是還原劑,K2MnF6是氧化產(chǎn)物
B.反應(yīng)③中K2MnF6一定是氧化劑可能還起到還原劑的作用,SbF5一定不是氧化劑
C.反應(yīng)②能夠發(fā)生可能原因是生成穩(wěn)定的絡(luò)合物SbF5的緣故
D.生成0.5mol的F2整個反應(yīng)過程中轉(zhuǎn)移的電子總數(shù)是4NA個.

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題

(I)下圖是一些常見的單質(zhì).化合物之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系圖,有些反應(yīng)中的部分物質(zhì)被略去.A為含14個電子的雙原子分子,C.E為金屬單質(zhì),B化合物中含E原子質(zhì)量含量為70%.反應(yīng)①②均為工業(yè)上的重要反應(yīng).

請回答下列問題:
(1)D的電子式為______.
(2)K的化學(xué)式為______.
(3)寫出B與C高溫反應(yīng)生成E和F的化學(xué)方程式:______.
(4)寫出D與J的稀溶液反應(yīng)生成G的離子方程式:______.
(5)I→L的離子方程式______.
(II)隨著尖端技術(shù)的發(fā)展,氟的用途日益廣泛,如用F2將UF4氧化成UF6,然后用氣體擴(kuò)散法使鈾的同位素235U和238U分離.而氟單質(zhì)的制備通常采用電解氧化法.下圖是電解熔融的氟氫化鉀(KHF2)和無水氟化氫的混合物,其裝置如圖:
(1)已知陰極的反應(yīng)為:2HF2-+2e-=H2+4F-則電解的總反應(yīng)為:______.
(2)出口1是(寫化學(xué)式,下同)______,出口2是______.
(3)在電解質(zhì)的熔鹽中常加入另一種氟化物(AlF3),他的作用是①減少HF的揮發(fā)②______.
(4)隨著電解的進(jìn)行有一種物質(zhì)會不斷被消耗,需要從入口處進(jìn)行補(bǔ)充,則從入口處加入的物質(zhì)是(寫化學(xué)式)______.
(5)化學(xué)家Karl Chrite首次用化學(xué)方法制的氟,這是1986年合成化學(xué)研究上的一大突破.具體制法為:
①4KMnO4+4KF+20HF=4K2MnF6+10H2O+3O2
②SbCl5+5HF=SbF5+5HCl
③2K2MnF6+4SbF5數(shù)學(xué)公式4KSbF6+2MnF3+F2
則下列說法正確的是______.
A.反應(yīng)①中KMnO4既是氧化劑又是還原劑,K2MnF6是氧化產(chǎn)物
B.反應(yīng)③中K2MnF6一定是氧化劑可能還起到還原劑的作用,SbF5一定不是氧化劑
C.反應(yīng)②能夠發(fā)生可能原因是生成穩(wěn)定的絡(luò)合物SbF5的緣故
D.生成0.5mol的F2整個反應(yīng)過程中轉(zhuǎn)移的電子總數(shù)是4NA個.

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