制備粗硅的反應(yīng)為:SiO2+2CSi+2CO↑,其中氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為( )
A.1 : 3 B.3: 1 C.1: 2 D.2 : 1
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科目:高中化學(xué) 來源:2011-2012年山東濟(jì)南外國語學(xué)校高一下學(xué)期期中考試化學(xué)試卷(解析版) 題型:實驗題
(5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3 :Si + 3HCl(g) SiHCl3 + H2(g)
③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅:
SiHCl3(g) + H2(g) Si(s)+ 3HCl(g)
已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng),且在空氣中易自燃。
用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)
(1)裝置B中的試劑是
(2)反應(yīng)一段時間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是 ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)為保證制備純硅實驗的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及 。
(4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑是 。(填寫字母代號)
a.碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題
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