【題目】下列指定反應(yīng)的離子方程式正確的是

A.鈉與水反應(yīng)：Na+H2O==Na++OH-+H2↑

B.向AlCl3溶液中加入過量氨水：Al3++4NH3·H2O=+4+2H2O

C.FeCl3溶液凈水原理：Fe3++3H2O=Fe(OH)3↓+3H+

D.用飽和Na2CO3溶液處理重晶石：BaSO4+-==BaCO3+

【答案】D

【解析】

A.鈉與水反應(yīng)生成氫氧化鈉和氫氣，反應(yīng)的離子方程式為2Na+2H2O=2Na++2OH-+H2↑，故A錯(cuò)誤；

B.氫氧化鋁是兩性氫氧化物，溶于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿，不溶于弱酸、弱堿，則向AlCl3溶液中與過量氨水反應(yīng)生成氫氧化鋁白色膠狀沉淀和氯化銨，反應(yīng)的離子方程式為Al3++3NH3·H2O=Al（OH）3↓+3NH4+，故B錯(cuò)誤；

C.FeCl3在溶液中水解生成氫氧化鐵膠體，氫氧化鐵膠體具有很大的表面積，能夠吸附水中懸浮雜質(zhì)，達(dá)到凈水的目的，水解的離子方程式為Fe3++3H2OFe(OH)3+3H+，故錯(cuò)誤；

D.飽和Na2CO3溶液與硫酸鋇反應(yīng)生成碳酸鋇和硫酸鈉，沉淀轉(zhuǎn)化的離子方程式為BaSO4+CO32--=BaCO3+SO42-，故D正確；

故選D。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】二氯化砜(SO2Cl2)是一種重要的有機(jī)合成試劑，實(shí)驗(yàn)室可利用SO2與Cl2反應(yīng)制取少量的SO2Cl2。裝置如圖(有些支持裝置省略了)所示。已知SO2Cl2的熔點(diǎn)為-54．1℃，沸點(diǎn)為69． 1℃；常溫下比較穩(wěn)定，受熱易分解，遇水能發(fā)生劇烈的水解反應(yīng)，產(chǎn)物之一為氯化氫氣體。

（1）儀器E的名稱是_______，由B的使用可知SO2與氯氣之間的反應(yīng)居于______(填“放”或“吸”)熱反應(yīng)，B處反應(yīng)管冷卻水應(yīng)從___________(填“a”或“b”)接口通入。如果將丙裝置放入冰水中，會(huì)更有利于二氯化砜的生成，其原因是__________。

（2）試劑X、Y的組合最好是_________。

a．98%硫酸和銅 b．稀硝酸和亞硫酸鈉固體 c．60%硫酸和亞硫酸鉀固體

（3）戊是貯氣裝置，則E中的試劑是_________；若缺少裝置乙和丁，潮濕的氯氣和二氧化硫之間發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是___________________________．

（4）取1．00g蒸餾后的液體，小心地完全溶于水，向所得的溶液中加入足量氯化鋇溶液，測得生成沉淀的質(zhì)量為1．50g，則所得餾分中二氯化砜的質(zhì)量百分含量為__________%(結(jié)果保留小數(shù)點(diǎn)后1位)。

（5）二氯化砜應(yīng)儲(chǔ)存于陰涼、干燥、通風(fēng)良好的庫房，但久置后微顯黃色，其原因是______。

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】下列有關(guān)實(shí)驗(yàn)存在不合理的裝置是

A.裝置甲：用CCl4萃取碘水中的碘

B.裝置乙：加熱碘的CCl4溶液，分離碘并回收CCl4

C.裝置丙：驗(yàn)證硫酸、碳酸、苯酚溶液的酸性

D.用乙酸、乙醇制取乙酸乙酯

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】在密閉容器中進(jìn)行反應(yīng)2SO2＋O22SO3，反應(yīng)達(dá)平衡的標(biāo)志是

①單位時(shí)間內(nèi)消耗2 mol SO2的同時(shí)生成2 mol SO3

②反應(yīng)混合物中，SO2、O2與SO3的物質(zhì)的量之比為2∶1∶2

③反應(yīng)混合物中，SO3的質(zhì)量分?jǐn)?shù)不再改變

A. ①②B. ①③C. ①D. ③

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】現(xiàn)有等體積的硫酸、鹽酸和醋酸三種溶液，將它們分別與V1L、V2L、V3L等濃度的NaOH溶液混合，下列說法中正確的是(　　)

A.若混合前三溶液物質(zhì)的量濃度相等，混合后溶液呈中性，則V1＜V2＜V3

B.若混合前三溶液pH相等，酸堿恰好完全反應(yīng)，則V1＝V2＞V3

C.若混合前三溶液物質(zhì)的量濃度相等，酸堿恰好完全反應(yīng)，則V1＞V2＞V3

D.若混合前三溶液pH相等，將它們同等倍數(shù)稀釋后再與足量鋅片反應(yīng)，則醋酸溶液放出氣體最多

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】下列圖示或根據(jù)圖示所得出的結(jié)論正確的是

A.圖甲表示相同pH的鹽酸和醋酸加水稀釋過程中pH的變化，則曲線a代表醋酸

B.圖乙表示溫度不變，向0.1mol·L-1NH4Cl溶液中滴加0.1mol·L-1鹽酸時(shí)，溶液中隨鹽酸體積的變化關(guān)系

C.圖丙表示密閉容器中CH4(g)+ H2O(g)CO(g)+3H2(g)到達(dá)平衡時(shí)，CH4的平衡轉(zhuǎn)化率與壓強(qiáng)、溫度的變化關(guān)系曲線，說明P1<P2

D.圖丁表示0.1000mol·L-1NaOH溶液滴定20.00 mL 0.1000mol·L-1醋酸溶液滴定曲線

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】銅制印刷電路板蝕刻液的選擇及再生回收是研究熱點(diǎn)。

(1)用HCl-FeCl3溶液作蝕刻液

①該溶液蝕刻銅板時(shí)發(fā)生主要反應(yīng)的離子方程式為__________.

②從廢液中可回收銅井使蝕刻液再生。再生所用的試劑有Fe和______(填化學(xué)式)。

(2)用HCl-CuCl2溶液作蝕刻液蝕刻銅后的廢液中含Cu+ 用下圖所示方法可使蝕刻液再生并回收金屬銅。

第一步BDD電極上生成強(qiáng)氧化性的氫氧自由基(HO·)：H2O-e-==HO·+H+： .

第二步HO·氧化Cu+實(shí)現(xiàn)CuCl蝕刻液再生：________(填離子方程式) .

(3)用堿性CuCl2溶液(用NH3·H2O-NH4Cl調(diào)節(jié)pH)作蝕刻液

原理為：CuCl2+ 4NH3·H2O==Cu(NH3)4Cl2+ 4H2O；Cu(NH3)4Cl2+Cu== 2Cu(NH3)2Cl

①過程中只須及時(shí)補(bǔ)充NH3·H2O和NH4Cl就可以使蝕刻液再生，保持蝕刻能力。蝕刻液再生過程中作氧化劑的是_________(填化學(xué)式) 。

②50℃，c(CuCl2)=2.5mol·L-1， pH對蝕刻速串的影響如圖所示。適宜pH約為8.3~9.0，pH過小或過大，蝕刻速率均會(huì)減小的原因是______________.

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】中國科學(xué)院上海有機(jī)化學(xué)研究所有機(jī)氟化學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在尋找新的反應(yīng)砌塊的過程中，意外發(fā)現(xiàn)一種安全、高效合成罕見的硫(Ⅵ)氟類無機(jī)化合物(氟磺酰基疊氮)的方法，該化合物對于一級胺類化合物有極高的重氮轉(zhuǎn)移反應(yīng)活性和選擇性.請回答下列問題：

(1)基態(tài)硫的價(jià)電子排布為_________________，氟的最高能級中電子云的形狀為_______________.

(2)中四種元素的第一電離能由大到小的順序?yàn)?/span>___________________.

(3)以和NaN3為原料在一定條件下可合成(氟磺�；B氮).

①NaN3中陰離子的中心氮原子的雜化方式為__________________.

②中不存在_______________(填字母).

A.極性鍵B.非極性鍵C.離子鍵D.金屬鍵E.σ鍵F.π鍵

(4)H－S－C≡N和H－N=C=S均為疊氮酸(HN3)的等電子體，二者的沸點(diǎn)： H－S－C≡N＜H－N=C=S，其原因是_________________，H－S－C≡N、H－N=C=S晶體中，有一種采用分子密堆積，即配位數(shù)為12，該物質(zhì)是_____________________(填結(jié)構(gòu)式).

(5)NaN3晶體的晶胞結(jié)構(gòu)如圖所示.

①晶體中，每個(gè)Na+周圍與它距離最近且相等的Na+共有_____________個(gè)

②設(shè)阿伏加德羅常數(shù)的值為NA，晶胞參數(shù)為apm，則NaN3晶體的密度為_____________g·cm-3(列出計(jì)算式).

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