Question

【題目】運(yùn)用化學(xué)反應(yīng)原理的有關(guān)知識(shí)回答下列問(wèn)題：

（1）晶體硅在氧氣中燃燒的熱化學(xué)方程式為Si(s)+O2(g)=SiO2 △H=-989.2 kJ·mol-1，有關(guān)鍵能數(shù)據(jù)如下表：

化學(xué)鍵	Si-O	O=O	Si-Si
鍵能kJ·mol-1	X	498.8	176

則X的值為_________。

（2）加熱N2O5，依次發(fā)生的分解反應(yīng)為①N2O5N2O3+O2，②N2O3N2O+O2，在1 L密閉容器中充入4 mol N2O5，加熱到t ℃，達(dá)到平衡狀態(tài)后O2的平衡濃度為4.5 mol/L，N2O3的平衡濃度為1.7 mol/L，則t℃時(shí)反應(yīng)①的平衡常數(shù)為_________。

（3）一只規(guī)格為amL的滴定管，其尖嘴部分充滿溶液，管內(nèi)液面在mmL處，當(dāng)液面降到n mL處時(shí)，下列判斷正確的是_________。

A．流出溶液的體積為(m-n)mL B．流出溶液的體積為(n-m)mL

C．管內(nèi)溶液體積等于(a-n)mL D．管內(nèi)溶液體積多于nmL

（4）已知某二元酸(H2A)溶液按下式發(fā)生一級(jí)和二級(jí)電離：H2A＝H++HA-；HA-H++A2-，且0.1mol·L-1的NaHA溶液的pH=2，則0.1mol·L-1的H2A溶液中氫離子的物質(zhì)的量濃度可能是_________0.11 mol·L-1（填“＜”“＞”或“=”），理由是__________。

Answer 1

【答案】 460 8.5mol/L B ﹤ H2A第一步電離產(chǎn)生的H+抑制了HA-的電離

【解析】(1)已知晶體硅的燃燒熱為989.2kJmol-1，則Si(s)+O2(g)=SiO2(s)△H=-989.2kJmol-1；1mol晶體硅中含有2molSi-Si，1molSiO2中含有4molSi-O，1molO2中含有1molO=O，則2×176 kJmol-1+498.8 kJmol-1-4X=-989.2 kJmol-1，解得X=460 kJmol-1，故答案為：460；

(2)設(shè)分解的N2O3物質(zhì)的量為x，反應(yīng)過(guò)程中共生成N2O3(x+3.4)mol，在①反應(yīng)中N2O5分解了(x+3.4)mol，同時(shí)生成O2(x+3.4)mol，在②反應(yīng)中生成氧氣xmol。則(x+3.4)+x=9，求得x=2.8，平衡時(shí)N2O5、N2O3、O2濃度依次為c(N2O5)=(8-2.8-3.4)÷2=0.9mol/L、c(N2O3)=3.4÷2=1.7mol/L、c(O2)=9÷2=4.5mol/L，反應(yīng)①的平衡常數(shù)K==8.5，故答案為：8.5；

(3)A．滴定管刻度值從上到下刻度逐漸增大，流出的液體的體積是(n-m)mL，故A錯(cuò)誤； B．滴定管刻度值從上到下刻度逐漸增大，流出的液體的體積是(n-m)mL，故B正確；C．滴定管的“0”刻度在上端，滿刻度在下端，滴定管刻度值從上到下刻度逐漸增大，滴定管滿刻度以下還有一段空間沒(méi)有刻度，amL滴定管中實(shí)際盛放液體的體積大于amL，因此，一支amL酸式滴定管中盛鹽酸，液面恰好在mmL刻度處，當(dāng)液面降到nmL處時(shí)，管內(nèi)溶液體積大于(a-n)mL，故C錯(cuò)誤；D．滴定管的“0”刻度在上端，滿刻度在下端，滴定管刻度值從上到下刻度逐漸增大，滴定管滿刻度以下還有一段空間沒(méi)有刻度，amL滴定管中實(shí)際盛放液體的體積大于amL，因此，一支amL酸式滴定管中盛鹽酸，液面在nmL刻度時(shí)，把管內(nèi)液體全部放出，還有滿刻度以下的溶液一并放出，總量超過(guò)(a-n)mL，即管內(nèi)溶液體積超過(guò)(a-n)mL，故D錯(cuò)誤；故選B。

(4)因?yàn)?/span>0.1molL-1NaHA溶液的pH=2，則由HA-H++A2-可知，電離出0.01mol/LH+；而0.1molL-1H2A溶液，H2A=H++HA-，電離出H+0.1mol/L和HA-0.1mol/L，但第一步電離生成的H+抑制了HA-的電離，所以溶液中氫離子的物質(zhì)的量濃度小于0.1mol/L+0.01mol/L，故答案為：＜；H2A第一步電離產(chǎn)生的H+，抑制了HA-的電離。