如圖為刻蝕在玻璃上的精美的花紋圖案，則該刻蝕過程中發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)為(   )
A．CaCO3＋2HCl=CaCl2＋H2O＋CO2↑
B．NaHCO3＋HCl=NaCl＋H2O＋CO2↑
C．Si＋4HF=SiF4↑＋2H2↑
D．SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O
D
因為玻璃中含有SiO2，而SiO2能與氫氟酸發(fā)生反應(yīng)：SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O，所以可以用氫氟酸來刻蝕玻璃。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

工業(yè)上制造金剛砂(SiC)的反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiO2+3CSiC+2CO↑，在這個氧化還原反應(yīng)中，氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比是(    )
A．1∶2                    B．2∶1
C．1∶1                    D．3∶5

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

Al2O3·2SiO2·2H2O是                                   
A．混合物
B．兩種氧化物的水化物
C．硅酸鹽
D．鋁酸鹽

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

我國具有獨立知識產(chǎn)權(quán)的電腦芯片“龍芯一號”的問世，填補(bǔ)了我國計算機(jī)制造史上的一項空白．下列對晶體硅的有關(guān)敘述正確的是
A．晶體硅和金剛石的物理性質(zhì)相似
B．硅在地殼中含量居第二位，可以以游離態(tài)存在于自然界中
C．晶體硅是一種良好的半導(dǎo)體材料，但是它提煉工藝復(fù)雜，價格昂貴
D．晶體硅具有金屬光澤，故它屬于金屬材料，可以導(dǎo)電

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

石墨在加熱和高壓的條件下可加工成金剛石，這個變化是_____________（物理、化學(xué)）變化。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

工業(yè)生產(chǎn)粗硅的主要原理為：SiO2+2C  3273K Si(粗)+2CO↑。
（1）若在制粗硅的過程中同時生成了碳化硅，且生成的硅和碳化硅的物質(zhì)的量之比為5∶1，則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量比為       ?            。
（2）工業(yè)上可通過如下流程由粗硅制取純硅：

+氫氣

 
+氯氣
 
提純
 
 


Si(粗)             SiCl4(l)                        Si(純)
若上述反應(yīng)中Si(粗)和SiCl4的利用率均為80%，制粗硅時有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC，則生產(chǎn)100.8t純硅需純度為75%的石英砂多少噸？
（3）工業(yè)上還可以通過下圖所示的流程來制取純硅：
 
反應(yīng)①： Si(粗)+3HCl(g)   553~573K  SiHCl3(l)+H2(g)
反應(yīng)②： SiHCl3+H2   1373K  Si(純)+3HCl
假設(shè)在每一輪次的投料生產(chǎn)中，硅元素沒有損失，反應(yīng)①中HCl的利用率為75%，反應(yīng)②中H2的利用率為80%，則在下輪次的生產(chǎn)中，需補(bǔ)充投入HCl和H2的體積比為多少？

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

物質(zhì)A是一種高熔點化合物，不溶于硫酸，硝酸等強(qiáng)酸。A與純堿熔融反應(yīng)，生成化合物B，同時放出氣體C；把氣體C通過B的溶液中，則得到化合物D；D在干燥空氣中轉(zhuǎn)變?yōu)榛衔顴；將E加熱又得到化合物A。試寫出A、B、C、D、E的化學(xué)式：A____、B____、C____、D____、E____。

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