為了驗證木炭可被濃H2SO4氧化成CO2,選用下圖所示儀器(內(nèi)含物質(zhì))組裝成實驗裝置:
(1)如按氣流由左向右流向,連接上述裝置的正確順序是(填各接口字母):
接 , 接 , 接 ;
(2)儀器乙、丙應(yīng)有怎樣的實驗現(xiàn)象才表明已檢驗出CO2?
乙中 ____ ,丙中 ______ ;
(3)丁中酸性KMnO4溶液的作用是 ;
(4)寫出甲中反應(yīng)的化學方程式 。
科目:高中化學 來源: 題型:填空題
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機物,無機鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好。
回答下列問題
(1)能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液,為什么?用化學方程式加以解釋 ;
(2)寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ,對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH一反應(yīng),生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4;诖嗽矸治龇磻(yīng)中氧化劑為 。
(3)本;瘜W興趣小組同學,為驗證Seidel的理論是否正確,完成以下實驗:
| 實驗事實 |
事實一 | 水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
事實二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
事實三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
事實四 | 在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點著后燜燒,可劇烈放出H2。 |
事實五 | 1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。 |
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科目:高中化學 來源: 題型:計算題
某金屬M的氫氧化物的水合晶體[M(OH)2?xH2O]與Na2CO3混合物共36.800g,加入足量的水后,生成MCO3的白色沉淀,將沉淀濾出,洗凈烘干,其質(zhì)量為9.850g。
47. 將 9.850g MCO3高溫灼熱至恒重,得到7.650g MO固體,則產(chǎn)生CO2氣體_______mol。
48.濾液與酸作用不產(chǎn)生氣體;若用足量的銨鹽與濾液共熱,則產(chǎn)生4.48L氣體(標準狀況),濾液中OH?的物質(zhì)的量為_______mol。
49.M的相對原子質(zhì)量為_________;試通過計算確定M(OH)2?xH2O中x的值:
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
(9分)一定量的濃硫酸與足量Zn充分反應(yīng)時有SO2和H2生成。某;瘜W研究性學習小組從定性方面對此作了研究。
按圖組裝好實驗裝置,微熱試管A,觀察到C、D、E中均有氣泡產(chǎn)生;隨后氣泡量減少,品紅溶液褪色,D中先出現(xiàn)渾濁,后渾濁消失;反應(yīng)較長時間后,C、D、E中的氣泡量又會明顯增加。
試回答下列問題:
(1)從甲、乙中選擇合適的裝置填入B、C中,并進行正確連接,a接______、______接b,c接______、______接d;D、E兩支試管中CCl4的作用是________________________。
(2)能證明濃硫酸具有強氧化性的實驗現(xiàn)象為_______________________________;實驗過程中,濃硫酸表現(xiàn)強氧化性的反應(yīng)方程式是:
____________________________________________________________________
(3)反應(yīng)較長時間后氣泡量又會明顯增加的原因是________________________________
____________________________________。
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
(16分)火力發(fā)電在我國的能源利用中占較大比重,但是排放出的SO2會造成一系列環(huán)境和生態(tài)問題,直接排放含SO2的煙氣會形成酸雨,危害環(huán)境。
(1)用化學方程式表示SO2形成硫酸型酸雨的反應(yīng): 。2分
(2)工業(yè)上用Na2SO3溶液吸收煙氣中的SO2。將煙氣通入1.0 mol·L-1的Na2SO3溶液,溶液pH不斷減小。當溶液pH約為6時,吸收SO2的能力顯著下降,應(yīng)更換吸收劑。
① 此時溶液中c(SO32–)的濃度是0.2 mol·L-1,則溶液中c(HSO3–)是_______mol?L-1。
② 向pH約為6的吸收劑中通入足量的O2,可將其中的NaHSO3轉(zhuǎn)化為兩種物質(zhì),反應(yīng)的化學方程式是 。2分
③ 某研究小組為探究提高含硫煙氣中SO2的吸收效率的措施,模擬實驗吸收含硫煙氣,實驗結(jié)果如圖所示。則: ,有利于提高SO2的吸收效率。2分
(3)工廠倉庫存放的Na2SO3藥品已部分被空氣氧化,該化學小組想用已知濃度的酸性KMnO4溶液來確定其含量,具體步驟如下:
步驟i 稱取樣品1.000 g。
步驟ii 將樣品溶解后,完全轉(zhuǎn)移到250 mL容量瓶中,定容,充分搖勻。
步驟iii 移取25.00 mL樣品溶液于250 mL錐形瓶中,用0.01000 mol·L-1 KMnO4標準溶液滴定至終點。
按上述操作方法再重復(fù)2次。
① 寫出步驟iii所發(fā)生反應(yīng)的離子方程式_________________________________;
② 在配制0.01000 mol·L-1 KMnO4溶液時若仰視定容,則最終測得藥品中Na2SO3的含量________(填“偏大”、“偏小”或“無影響”)。
③ 某同學設(shè)計用下列儀器進行滴定實驗(夾持部分略去),最合理的組合是 (填字母)。
A B C D E
④ 滴定結(jié)果如下表所示:
滴定次數(shù) | 待測溶液 的體積/mL | 標準溶液的體積 | |
滴定前刻度/mL | 滴定后刻度/mL | ||
1 | 25.00 | 1.02 | 21.03 |
2 | 25.00 | 2.00 | 21.99 |
3 | 25.00 | 2.20 | 20.20 |
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
(14分)利用下圖裝置進行木炭粉和濃硫酸的反應(yīng)及其產(chǎn)物的檢驗。
已知:紫紅色的酸性高錳酸鉀溶液能與二氧化硫發(fā)生氧化還原反應(yīng),向酸性高
(1)組裝好上述裝置后,首先要進行的操作是: 。
(2)寫出濃硫酸和木炭粉在加熱條件下發(fā)生反應(yīng)的化學方程式: 。
(3)用圖中的裝置檢驗上述反應(yīng)的全部產(chǎn)物,寫出下面標號所表示的儀器中應(yīng)加入試劑的名稱及其作用:A中加入的試劑和作用是 、 ;B中加入的試劑和作用是 、 。
(4)實驗時,C中應(yīng)觀察到什么現(xiàn)象,才可以說明生成了二氧化碳: 。
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
(12分)【化學——化學與技術(shù)】
工業(yè)上以黃鐵礦為原料,采用接觸法生產(chǎn)硫酸。請回答下列問題:
(1)煅燒黃鐵礦的設(shè)備名稱是__________,進料前必須將黃鐵礦粉碎,目的是________。所得爐渣的用途有__________________________(填一種用途)。
(2)進入接觸室前的氣體必須經(jīng)過凈化處理,目的是防止________________________________。
(3)生產(chǎn)過程中,吸收三氧化硫常用的物質(zhì)是_____________________________。
(4)溫度變化與二氧化硫轉(zhuǎn)化率的變化關(guān)系可用下圖中的曲線______(填“a”或“b”)表示。
(5)工業(yè)上常用熟石灰和硫酸處理、回收尾氣中的有害氣體。反應(yīng)的化學方程式為:
________________________________、_________________________________。
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
某研究性學習小組設(shè)計兩套實驗方案制備氨氣并探究其還原性(部分夾持裝置已省略)。
甲方案:如圖所示。
乙方案:如圖所示。
根據(jù)方案回答下列問題:
(一)甲方案
(1)B裝置盛裝堿石灰,A裝置中藥品可以是 。
a.氯化銨固體和燒堿 b.碳酸氫銨固體
c.氯化銨固體 d.硫酸銨和熟石灰
(2)實驗完畢后,設(shè)計簡單實驗檢驗D試管收集到的物質(zhì)(簡述操作過程、現(xiàn)象和結(jié)論) 。
(3)寫出C中發(fā)生反應(yīng)的化學方程式 。
(二)乙方案
(4)A為濃氨水,B為生石灰,簡述實驗原理: 。E裝置里盛裝的藥品是 。
(5)能證明氨氣具有還原性的實驗現(xiàn)象 。(任寫兩條)
(6)銅有+2價、+1價、0價,根據(jù)氧化還原反應(yīng)原理,D玻璃管里還原產(chǎn)物除銅外,還可能有 ,假設(shè)有銅以外的還原產(chǎn)物生成,寫出D中發(fā)生反應(yīng)的化學方程式: 。
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用焦炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450~500 ℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關(guān)信息如下:
a.四氯化硅遇水極易水解;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
物 質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升華溫度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
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