【題目】下列說(shuō)法不正確的是( )
A. 工業(yè)制備鎂的原理:MgO(熔融)Mg+O2↑
B. 久罝的硫酸亞鐵溶液滴加KSCN溶液,溶液顯淡紅色
C. SiO2中含Al2O3雜質(zhì),可加入足量HCl溶液然后過(guò)濾除去
D. 向氯化銨溶液加入濃氫氧化鈉溶液,加熱,產(chǎn)生的氣體使?jié)駶?rùn)的pH試紙變藍(lán)
【答案】A
【解析】A.鎂性質(zhì)活潑,工業(yè)上用電解熔融氯化鎂制備鎂,方程式:MgCl2Mg+Cl2↑,故A錯(cuò)誤;B.久置的硫酸亞鐵溶液,二價(jià)鐵離子被氧化生成三價(jià)鐵離子,滴加KSCN溶液,三價(jià)鐵離子與硫氰酸根發(fā)生絡(luò)合反應(yīng),溶液顯淡紅色,故B正確;C.SiO2中含Al2O3雜質(zhì),氧化鋁能夠溶于鹽酸,而二氧化硅不溶,可加入足量HCl溶液然后過(guò)濾除去,故C正確;D.向氯化銨溶液加入氫氧化鈉溶液,加熱生成氨氣,氨氣為堿性氣體,能夠使?jié)駶?rùn)的pH試紙變藍(lán),故D正確;故選A。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】在鐵制品上鍍上一定厚度的鋅層,以下設(shè)計(jì)方案正確的是( )
A.鋅作陽(yáng)極,鍍件作陰極,溶液中含有鋅離子
B.鉑作陰極,鍍件作陽(yáng)極,溶液中含有鋅離子
C.鐵作陽(yáng)極,鍍件作陰極,溶液中含有亞鐵離子
D.鋅用陰極,鍍件作陽(yáng)極,溶液中含有鋅離子
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】反應(yīng)A (g)+B (s)C(g); ΔH<0,在其他條件不變時(shí),改變其中一個(gè)條件,則生成C的速率(填“加快”、“ 減慢”或“不變”)。
(1)升溫____________;
(2)加正催化劑______________;
(3)增大容器容積___________;
(4)加入C_________________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】關(guān)于淀粉和纖維素關(guān)系的敘述中不正確的是
A.都是非還原糖B.都符合分子式(C6H10O5)n
C.互為同分異構(gòu)體D.都是天然高分子化合物
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列指定反應(yīng)的離子方程式正確的是 ( )
A. 鈉與水反應(yīng): Na +2H2ONa++2OH- + H2↑
B. 將少量Na2O2固體加入過(guò)量Ba(HCO3)2溶液中:2Na2O2+4Ba2++4HCO3-=4BaCO3↓+2H2O+O2↑+4Na+
C. 向氫氧化鋇溶液中加入稀硫酸: Ba2++OH- + H+ + SO42- BaSO4↓+H2O
D. 向碳酸氫銨溶液中加入足量石灰水: Ca2++ HCO3-+OH-CaCO3↓+H2O
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某實(shí)驗(yàn)小組對(duì)一含有Al3+的未知溶液進(jìn)行了如下分析:(1)滴入少量氫氧化鈉,無(wú)明顯變化;(2)繼續(xù)滴加NaOH溶液,有白色沉淀;(3)滴入過(guò)量的氫氧化鈉,白色沉淀明顯減少。實(shí)驗(yàn)小組經(jīng)定量分析,得出如圖所示沉淀與滴入氫氧化鈉體積的關(guān)系。下列說(shuō)法正確的是( )
A. 該未知溶液中至少含有4種陽(yáng)離子
B. 滴加的NaOH溶液的物質(zhì)的量濃度為0.5 mol·L-1
C. 若另一種離子為二價(jià)陽(yáng)離子,則a=10
D. 若將最終沉淀過(guò)濾、洗滌、灼燒,其質(zhì)量一定為6g
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列關(guān)于有機(jī)物的概念、性質(zhì)說(shuō)法正確的是( )
A.苯與甲苯屬于同分異構(gòu)體
B.苯與液溴在FeBr3催化作用下發(fā)生的反應(yīng)屬于取代反應(yīng)
C.甲烷與Cl2在光照條件下發(fā)生的反應(yīng)屬于加成反應(yīng)
D.乙醇與乙二醇( CH2OH-CH2OH) 屬于同系物.
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用.回答下列問(wèn)題:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有____________________。
(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料.工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖:
ⅰ鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:
① 過(guò)程Ⅰ發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________(SiO2+3CSiC+2CO↑為副反應(yīng))若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為1:1,則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量之比為________________。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。SiCl4遇水劇烈水解生成兩種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是_________________________。
ⅱ 工業(yè)上也可以通過(guò)如下圖所示的流程制取純硅:
①有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和_________;SiHCl3極易水解,其完全水解的化學(xué)方程式為___________________________。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | ﹣30.4 | ﹣84.9 | ﹣111.9 |
② 假設(shè)每一輪次制備1mol純硅,且生產(chǎn)過(guò)程中硅元素沒(méi)有損失,反應(yīng)I中HCl的利用率為90%,反應(yīng)II中H2的利用率為93.75%,則在第二輪次的生產(chǎn)中,補(bǔ)充投入HCl 和H2的物質(zhì)的量之比是___________________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列裝置合理且能達(dá)到實(shí)驗(yàn)?zāi)康牡氖?/span>
A. 實(shí)驗(yàn)室用裝置①制取氨氣
B. 裝置②將化學(xué)能轉(zhuǎn)化為電能
C. 裝置③可用于分離沸點(diǎn)相差較大的互溶液體混合物
D. 裝置④可用于Fe(OH)2的制取,并能防止Fe(OH)2被氧化
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