【題目】下列說(shuō)法不正確的是( )

A. 工業(yè)制備鎂的原理:MgO(熔融)Mg+O2

B. 久罝的硫酸亞鐵溶液滴加KSCN溶液,溶液顯淡紅色

C. SiO2中含Al2O3雜質(zhì),可加入足量HCl溶液然后過(guò)濾除去

D. 向氯化銨溶液加入濃氫氧化鈉溶液,加熱,產(chǎn)生的氣體使?jié)駶?rùn)的pH試紙變藍(lán)

【答案】A

【解析】A鎂性質(zhì)活潑,工業(yè)上用電解熔融氯化鎂制備鎂,方程式:MgCl2Mg+Cl2,故A錯(cuò)誤;B.久置的硫酸亞鐵溶液,二價(jià)鐵離子被氧化生成三價(jià)鐵離子,滴加KSCN溶液,三價(jià)鐵離子與硫氰酸根發(fā)生絡(luò)合反應(yīng),溶液顯淡紅色,故B正確;CSiO2中含Al2O3雜質(zhì),氧化鋁能夠溶于鹽酸,而二氧化硅不溶,可加入足量HCl溶液然后過(guò)濾除去,故C正確;D.向氯化銨溶液加入氫氧化鈉溶液,加熱生成氨氣,氨氣為堿性氣體,能夠使?jié)駶?rùn)的pH試紙變藍(lán),故D正確;故選A。

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】在鐵制品上鍍上一定厚度的鋅層,以下設(shè)計(jì)方案正確的是(
A.鋅作陽(yáng)極,鍍件作陰極,溶液中含有鋅離子
B.鉑作陰極,鍍件作陽(yáng)極,溶液中含有鋅離子
C.鐵作陽(yáng)極,鍍件作陰極,溶液中含有亞鐵離子
D.鋅用陰極,鍍件作陽(yáng)極,溶液中含有鋅離子

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】反應(yīng)A (g)+B (s)C(g); ΔH<0,在其他條件不變時(shí),改變其中一個(gè)條件,則生成C的速率(加快”、“ 減慢不變”)。

(1)升溫____________;

(2)加正催化劑______________;

(3)增大容器容積___________;

(4)加入C_________________。

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】關(guān)于淀粉和纖維素關(guān)系的敘述中不正確的是

A.都是非還原糖B.都符合分子式(C6H10O5)n

C.互為同分異構(gòu)體D.都是天然高分子化合物

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】下列指定反應(yīng)的離子方程式正確的是 ( )

A. 鈉與水反應(yīng): Na +2H2ONa++2OH + H2

B. 將少量Na2O2固體加入過(guò)量Ba(HCO3)2溶液中:2Na2O2+4Ba2++4HCO3=4BaCO3↓+2H2O+O2↑+4Na+

C. 向氫氧化鋇溶液中加入稀硫酸: Ba2++OH + H+ + SO42- BaSO4↓+H2O

D. 向碳酸氫銨溶液中加入足量石灰水: Ca2++ HCO3+OHCaCO3↓+H2O

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】某實(shí)驗(yàn)小組對(duì)一含有Al3+的未知溶液進(jìn)行了如下分析:(1)滴入少量氫氧化鈉,無(wú)明顯變化;(2)繼續(xù)滴加NaOH溶液,有白色沉淀;(3)滴入過(guò)量的氫氧化鈉,白色沉淀明顯減少。實(shí)驗(yàn)小組經(jīng)定量分析,得出如圖所示沉淀與滴入氫氧化鈉體積的關(guān)系。下列說(shuō)法正確的是( )

A. 該未知溶液中至少含有4種陽(yáng)離子

B. 滴加的NaOH溶液的物質(zhì)的量濃度為0.5 mol·L-1

C. 若另一種離子為二價(jià)陽(yáng)離子,則a10

D. 若將最終沉淀過(guò)濾、洗滌、灼燒,其質(zhì)量一定為6g

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】下列關(guān)于有機(jī)物的概念、性質(zhì)說(shuō)法正確的是( )

A.苯與甲苯屬于同分異構(gòu)體

B.苯與液溴在FeBr3催化作用下發(fā)生的反應(yīng)屬于取代反應(yīng)

C.甲烷與Cl2在光照條件下發(fā)生的反應(yīng)屬于加成反應(yīng)

D.乙醇與乙二醇( CH2OH-CH2OH) 屬于同系物.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用.回答下列問(wèn)題:

1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有____________________

2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料.工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖:

鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:

過(guò)程發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________(SiO2+3CSiC+2CO↑為副反應(yīng))若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為11,則參加反應(yīng)的CSiO2的質(zhì)量之比為________________。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。SiCl4遇水劇烈水解生成兩種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是_________________________。

工業(yè)上也可以通過(guò)如下圖所示的流程制取純硅:

①有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和_________;SiHCl3極易水解,其完全水解的化學(xué)方程式為___________________________。

物質(zhì)

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點(diǎn)/℃

2355

57.6

31.8

8.2

﹣30.4

﹣84.9

﹣111.9

假設(shè)每一輪次制備1mol純硅,且生產(chǎn)過(guò)程中硅元素沒(méi)有損失,反應(yīng)IHCl的利用率為90%,反應(yīng)IIH2的利用率為93.75%,則在第二輪次的生產(chǎn)中,補(bǔ)充投入HCl H2的物質(zhì)的量之比是___________________。

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】下列裝置合理且能達(dá)到實(shí)驗(yàn)?zāi)康牡氖?/span>

A. 實(shí)驗(yàn)室用裝置①制取氨氣

B. 裝置②將化學(xué)能轉(zhuǎn)化為電能

C. 裝置③可用于分離沸點(diǎn)相差較大的互溶液體混合物

D. 裝置④可用于Fe(OH)2的制取,并能防止Fe(OH)2被氧化

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