計算機(jī)是現(xiàn)代非常重要的一種通訊工具,用于制造計算芯片的材料是
A.Na2CO3B.SiC.CaCO3D.SiO2
B
硅是良好的半導(dǎo)體材料,可用來制造元器件、晶體管等,答案為B
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

生態(tài)溶液涉及農(nóng)家肥料的綜合利用,某種肥料經(jīng)發(fā)酵得到一種含有甲烷、二氧化碳、氮?dú)獾幕旌蠚怏w。2.016L(標(biāo)準(zhǔn)狀況)該氣體通過盛有紅色CuO粉末的硬質(zhì)玻璃管,發(fā)生的反應(yīng)為:CH4+4CuOCO2+2H2O+4Cu。當(dāng)甲烷完全反應(yīng)后,硬質(zhì)玻璃管的質(zhì)量減輕4.8g。將反應(yīng)后產(chǎn)生的氣體通過過量的澄清石灰水,充分吸收,生成沉淀8.5g。試計算:
(1)原混合氣體中甲烷的物質(zhì)的量是____________;二氧化碳的質(zhì)量是          
(2)原混合氣體中氮?dú)獾捏w積分?jǐn)?shù)為                  

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列有關(guān)物質(zhì)的用途(括號內(nèi)為用途)說法不正確的是
A.硅(半導(dǎo)體材料)B.二氧化硅(制光導(dǎo)纖維)
C.水玻璃(黏合劑)D.硅酸(作耐火材料)

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

(10分)工業(yè)生產(chǎn)粗硅的反應(yīng)有:
SiO2+2CSi(粗)+2CO↑;SiO2+3C SiC+2CO↑。
(1)若產(chǎn)品中粗硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為1∶1,則參加反應(yīng)的C 和SiO2的質(zhì)量比為______________。
(2)粗硅進(jìn)一步制備純硅的原理如下:
Si(粗)+2Cl2(g) SiCl4(l);     SiCl4+2H2 Si(純)+4HCl。
若上述反應(yīng)中Si(粗)和SiCl4的利用率均為80%,制粗硅時有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC,則生產(chǎn)25.2噸純硅需純度為75%石英砂_______________噸。
(3)工業(yè)上還可以通過如下圖所示的流程制取純硅:

若反應(yīng)①為:Si(粗)+3HCl(g)SiHCl3(l)+H2(g);
則反應(yīng)②的化學(xué)方程式為___________________________________ 。
假設(shè)每一輪次生產(chǎn)過程中,硅元素沒有損失,反應(yīng)①中HCl的利用率為α1,反應(yīng)②中H2的利用率為α2,,若制備1mol純硅,在第二輪次的生產(chǎn)中,現(xiàn)補(bǔ)充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比是5∶1。則α1與α2的代數(shù)關(guān)系式為____________________________。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

光導(dǎo)纖維的主要成分是(     )
A.SiB.SiO2C.SiCD.Na2SiO3

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

(15分)硅酸鈉被國家列為“我國優(yōu)先發(fā)展的精細(xì)化學(xué)品”和“今后我國無機(jī)化工產(chǎn)品發(fā)展重點”之一。下圖是某種品位的石英砂礦石(主要成分是SiO2,還含有一定量的Fe2O3、Na2SO4、Na2CO3等雜質(zhì))制備硅酸鈉的工藝流程示意簡圖:


閱讀上述資料,回答下列問題
(1)作為“我國優(yōu)先發(fā)展的精細(xì)化學(xué)品”,硅酸鈉用途很多,請列舉一個硅酸鈉的用途
                      
(2)石英礦粉用水淋洗,檢驗洗出液中含有SO42—的實驗操作和實驗現(xiàn)象分別是:用膠頭滴管取2ml洗出液I于試管中,                                     
(3)在操作I得到的濾渣中加入燒堿溶液,請寫出反應(yīng)的離子方程式
                                                              
(4)“操作I”的名稱為             
“操作II”包含“蒸發(fā)濃縮、冷卻結(jié)晶、過濾”系列操作,其中“蒸發(fā)濃縮”所用到的硅酸鹽
材料的儀器有                                                             
(5)“取樣分析”的目的是確保濾渣II中不含有雜質(zhì)離子,簡述“取樣分析”的操作和實驗現(xiàn)象:用膠頭滴管取2ml洗出液II于試管中,                                 
(6)下列關(guān)于Si、SiO2、Na2SiO3等物質(zhì)的說法,不正確的是         
A.硅在周期表的位置是第三周期第IVA族
B.原子半徑大小關(guān)系:Na > Si > C > O
C.二氧化硅是酸性氧化物,能與強(qiáng)堿反應(yīng),不與任何酸反應(yīng)
D.實驗室燒熔燒堿固體采用的儀器有酒精燈、玻璃棒、石英坩堝
E.Na2SO4、Na2CO3、Na2SiO3、SiO2均屬于離子化合物

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列物質(zhì)中,主要成分屬于硅酸鹽的是
A.陶瓷B.石灰C.膽礬D.純堿

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

2010年11月14日,全球超級計算機(jī)500強(qiáng)排行榜在美國公布,中國天河一號超級計算機(jī)以每秒2570萬億次的實測運(yùn)算速度,成為世界運(yùn)算最快的超級計算機(jī)。計算機(jī)芯片的主要材料是硅,下列有關(guān)硅及化合物的說法正確的是
A.單質(zhì)硅具有良好的導(dǎo)電性能
B.光導(dǎo)纖維的主要成份是二氧化硅
C.二氧化硅是H2SiO3的酸酐,因此能與水反應(yīng),也能與堿溶液反應(yīng)
D.硅酸鹽是由二氧化硅與金屬氧化物組成的混合物

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

氮化硅(Si3N4)是一種優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
I.工業(yè)上有多種方法來制備氮氦化硅,常見的方法有:
方法一 直接氦化法:在1300~1400℃時,高純粉狀硅與純氦氣化合,其反應(yīng)方程式為
                                                                           
方法二 化學(xué)氣相沉積法:在高溫條件下利用四氯化硅氣體、純氦氣、氫氣反應(yīng)生成氦化硅和HCl,與方法一相比,用此法制得的氦化硅純度較高,其原因是            
方法三  Si(NH­24熱分解法:先用四氯化硅與氨氣反應(yīng)生成Si(NH­24和一種氣體
         (填分子式);然后使Si(NH24受熱分解,分解后的另一種產(chǎn)物的分子式為             。
II.(1)氨化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氨化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,此鹽中存在的化學(xué)鍵類型有                 
(2)已知:25℃,101kPa條件下的熱化學(xué)方程式:
3Si(s)+2N2(g)==Si3N4(s)  △H=—750.2kJ/mol
Si(s)+2Cl2(g)==SiCl4(g)  △H=—609.6kJ/mol
H2(g)+Cl2(g)==HCl(g) △H=—92.3kJ/mol
請寫出四氯化硅氣體與氮?dú)、氫氣反?yīng)的熱化學(xué)方程式:
                                                                     
III.工業(yè)上制取高純硅和四氯化硅的生產(chǎn)流程如下:

已知:X,高純硅、原料B的主要成分都可與Z反應(yīng),Y與X在光照或點燃條件下可反應(yīng),Z的焰色呈黃色。
(1)原料B的主要成分是              
(2)寫出焦炭與原料B中的主要成分反應(yīng)的化學(xué)方程式:                 。
(3)上述生產(chǎn)流程中電解A的水溶液時,陽極材料能否用Cu?  (填“能”或“不能”)。
寫出Cu為陽極電解A的水溶液開始一段時間陰陽極的電極方程式:
陽極:                     ;陰極:                   。

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