下列關(guān)于C、Si兩種非金屬元素的說法中，正確的是                                       (　　)

A．兩者結(jié)合形成的化合物是共價化合物

B．在自然界中都能以游離態(tài)存在

C．氫化物的熱穩(wěn)定性比較：CH4＜SiH4

D．最高價氧化物都能與水反應(yīng)生成相應(yīng)的酸


答案　A

解析　C、Si都是非金屬元素，結(jié)合形成的化合物是共價化合物，A正確；Si元素為親氧元素，不能以游離態(tài)存在，故B錯；非金屬性C＞Si，故氫化物的熱穩(wěn)定性SiH4＜CH4，故C錯；SiO2既不溶于水，也不和水反應(yīng)，故D錯。


練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：


下列敘述正確的是

A.發(fā)生化學(xué)反應(yīng)時得到電子越多，非金屬原子的氧化能力越強

B.金屬陽離子被還原后，一定得到該元素的單質(zhì)

C.核外電子數(shù)相同的原子，一定是同種元素的原子

D.能與酸反應(yīng)的氧化物，一定是堿性氧化物

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下列敘述正確的是

①久置于空氣中的氫氧化鈉溶液，加鹽酸時有氣體產(chǎn)生

②濃硫酸可用于干燥氨氣、二氧化氮氣體

③SiO2和CO2都是酸性氧化物，都能與強堿溶液反應(yīng)，但不能與任何酸反應(yīng)

④玻璃、水泥、水晶項鏈都是硅酸鹽制品

⑤蔗糖炭化的演示實驗中，濃硫酸既體現(xiàn)了其強氧化性又體現(xiàn)了其脫水性

A．①④⑤　  B．①⑤      C．②③④　    D．④⑤

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       下列說法正確的是                                                                                           (　　)

A．反應(yīng)：SiO2＋Na2CO3Na2SiO3＋CO2↑，說明H2SiO3的酸性大于H2CO3的酸性

B．可在試管內(nèi)完成焦炭和石英砂(SiO2)制取硅的反應(yīng)

C．二氧化硅是生產(chǎn)光導(dǎo)纖維、玻璃的基本原料

D．CO2、CH4、N2是溫室氣體

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：


       晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

ⅱ.粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：

Si＋3HClSiHCl3＋H2

ⅲ.SiHCl3與過量H2在1 000～1 100 ℃反應(yīng)制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請回答下列問題：

(1)第ⅰ步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為___________________________________。

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點

57.6 ℃)和HCl(沸點－84.7 ℃)，提純SiHCl3采用的方法為______________________。

(3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)：

①裝置B中的試劑是____________________________________________________。

裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_______________________________________。

②反應(yīng)一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是_______________________________，

裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________________________________，

裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及__________________。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是______(填寫字母代號)。

a．碘水　b．氯水　c．NaOH溶液　d．KSCN溶液

e．Na2SO3溶液

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       下列離子方程式不正確的是                                                                             (　　)

A．石英與燒堿反應(yīng)：SiO2＋2OH－===SiO＋H2O

B．硅與燒堿反應(yīng)：Si＋2OH－===SiO＋H2↑

C．硅酸鈉溶液中通入少量CO2：SiO＋CO2＋H2O===CO＋H2SiO3↓

D．往水玻璃中加入鹽酸：2H＋＋SiO===H2SiO3↓

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：


硅及其化合物在自然界廣泛存在并被人類應(yīng)用。

(1)氮化硅膜與二氧化硅膜相比較具有表面化學(xué)性能穩(wěn)定等優(yōu)點，故氮化硅膜可用于半導(dǎo)體工業(yè)。可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定條件下反應(yīng)，并在600 T的加熱基板上生成氮化硅膜：

3SiH4＋4NH3Si3N4＋12H2

以硅化鎂為原料制備硅烷的反應(yīng)和工業(yè)流程如下：

反應(yīng)原理：4NH4Cl＋Mg2Si4NH3↑＋SiH4↑＋2MgCl2　(ΔH＜0)

①NH4Cl中的化學(xué)鍵類型有______________________，SiH4的電子式為______________。

②上述生產(chǎn)硅烷的過程中液氨的作用是______________________________________

________________________________________________________________________。

③氨氣是重要的工業(yè)原料，寫出氨氣發(fā)生催化氧化反應(yīng)生成NO的化學(xué)方程式________________________________________________________________________，

實驗室可利用如右圖所示裝置完成該反應(yīng)。在實驗過程中，除觀察到錐形瓶中產(chǎn)生紅棕色氣體外，還可觀察到有白煙生成，白煙的主要成分是________。

(2)三硅酸鎂(Mg2Si3O8·nH2O)難溶于水，在醫(yī)藥上可做抗酸劑。它除了可以中和胃液中多余的酸之外，生成的H2SiO3還可覆蓋在有潰瘍的胃表面，保護其不再受刺激。三硅酸鎂與鹽酸反應(yīng)的化學(xué)方程式為__________________________________

____________________________。將0.184 g三硅酸鎂加入到50 mL 0.1 mol·L－1鹽酸中，充分反應(yīng)后，濾去沉淀，用0.1 mol·L－1 NaOH溶液滴定剩余的鹽酸，消耗NaOH溶液

30 mL，則Mg2Si3O8·nH2O中的n值為__________。(注：Mg2Si3O8的摩爾質(zhì)量為

260 g·mol－1)。

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在一個氧化還原反應(yīng)體系中反應(yīng)物、生成物共六種粒子，F(xiàn)e3＋、NO、Fe2＋、NH、H＋和H2O，下列敘述正確的是(　　)

A．該反應(yīng)說明Fe(NO3)2溶液不宜加酸酸化

B．該反應(yīng)中氧化劑與還原劑物質(zhì)的量之比為81

C．若有1 mol NO發(fā)生氧化反應(yīng)，則轉(zhuǎn)移電子5 mol

D．若將該反應(yīng)設(shè)計成原電池，則負(fù)極反應(yīng)為Fe3＋＋e－===Fe2＋

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：


 (1)(3))二氧化氯(ClO2)是一種高效、廣譜、安全的殺菌、消毒劑。

(1)氯化鈉電解法是一種可靠的工業(yè)生產(chǎn)ClO2方法。

①用于電解的食鹽水需先除去其中的Ca2＋、Mg2＋、SO等雜質(zhì)。某次除雜操作時，往粗鹽水中先加入過量的________________(填化學(xué)式)，至沉淀不再產(chǎn)生后，再加入過量的Na2CO3和NaOH，充分反應(yīng)后將沉淀一并濾去。經(jīng)檢測發(fā)

現(xiàn)濾液中仍含有一定量的SO，其原因是________________________________[已知：Ksp(BaSO4)＝1.1×10－10、Ksp(BaCO3)＝5.1×10－9]。

②該法工藝原理示意圖如下。其過程是將食鹽水在特定條件下電解得到的氯酸鈉(NaClO3)與鹽酸反應(yīng)生成ClO2。工藝中可以利用的單質(zhì)有____________(填化學(xué)式)，發(fā)生器中生成ClO2的化學(xué)方程式為_____________________________________________________

________________________________。

(3)ClO2和Cl2均能將電鍍廢水中的CN－氧化為無毒的物質(zhì)，自身被還原為Cl－。處理含CN－相同量的電鍍廢水，所需Cl2的物質(zhì)的量是ClO2的______倍。

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