下列溶液中與100mL0.1mol/L(NH4)2SO4溶液中NH4+離子濃度相同的是      

A.10mL 1mol/L (NH4)2SO4溶液             B.50mL 0.2mol/L NH4Cl溶液

C.10mL 0.2mol/L (NH4)2SO4溶液           D.200mL 0.1mol/L NH4NO3溶液

 

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：閱讀理解

信息時(shí)代給人們的生活帶來了極大的便利，但同時(shí)也產(chǎn)生了大量的電子垃圾．某化學(xué)興趣小組將一批廢棄的線路板簡(jiǎn)單處理后，得到了主要含Cu、Al及少量Fe、Au等金屬的混合物，并設(shè)計(jì)了如下制備硫酸銅晶體和硫酸鋁晶體的路線：
部分陽(yáng)離子以氫氧化物形式沉淀時(shí)溶液的pH見下表：
沉淀物 Fe（OH）3 Al（OH）3 Cu（OH）2
開始沉淀物 1.1 4.0 5.4
完全沉淀物 3.2 5.2 6.7
（1）過濾操作中用到的玻璃儀器有
燒杯、漏斗、玻璃棒
燒杯、漏斗、玻璃棒
．
（2）Cu可溶于稀硫酸與H2O2的混合溶液，其離子方程式是
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O
Cu+H2O2+2H+═Cu2++2H2O
．
（3）濾渣a的主要成分是
Au
Au
．
（4）步驟③中X的取值范圍是
5.2≤X＜5.4
5.2≤X＜5.4
．
（5）某小組甲同學(xué)提出如下方案測(cè)定CuSO4?5H2O晶體的純度．取b g試樣配成100m L溶液，每次取20.00m L，消除干擾離子后，用c mol?L-1EDTA（H2Y2-）標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定至終點(diǎn)，平均消耗EDTA溶液12.00m L．滴定反應(yīng)如下：Cu2++H2Y2-═CuY2-+2H+．
①寫出計(jì)算CuSO4?5H2O質(zhì)量分?jǐn)?shù)的表達(dá)式w=
15c
a
15c
a
．
②下列操作會(huì)導(dǎo)致CuSO4?5H2O含量的測(cè)定結(jié)果偏高的是
c
c
（填字母）．
a．未干燥錐形瓶　b．滴定終點(diǎn)時(shí)滴定管尖嘴中產(chǎn)生氣泡c．未除凈可與EDTA反應(yīng)的干擾離子
③該小組乙同學(xué)提出通過直接測(cè)定樣品中SO42一的量也可求得硫酸銅晶體的純度，老師審核后予以否決，其原因是
樣品中的雜質(zhì)Na2SO4中也含有SO42-
樣品中的雜質(zhì)Na2SO4中也含有SO42-
．

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