2017年5月26日，Alpha Go人機(jī)配對賽開戰(zhàn)，Alpha Go的芯片主要以高純度的單質(zhì)硅(Si)為原料制成。在半導(dǎo)體硅元件生產(chǎn)中，常用氫氟酸(HF)來清除硅表面的氧化膜，反應(yīng)原理可表示為SiO2＋6HF=H2SiF6＋2X。已知硅元素顯＋4價(jià)。下列說法錯(cuò)誤的是(　　)

A.生成物X的化學(xué)式是H2O B.該反應(yīng)是復(fù)分解反應(yīng)

C.H2SiF6中氟元素顯-1價(jià) D.地殼中硅元素含量僅次于氧元素

下列常用儀器的操作方法正確的是

A.用酒精燈火焰直接加熱燒杯

B.打開試劑瓶取用試劑后沒及時(shí)蓋瓶塞

C.給試管內(nèi)固體加熱，試管口略向下傾斜

D.取用試劑后將滴管清洗再放回原滴瓶

下列物質(zhì)既是空氣的成分，又屬于氧化物的是（　�。�

A.氧化鋁 B.氧氣 C.二氧化碳 D.稀有氣體

新產(chǎn)品磨牙器能有效幫助去除牙齒表面的牙垢，磨牙器磨頭采用50%橡膠與50%的金剛砂（主要成分為碳化硅）特制而成。已知碳化硅中碳元素顯－4價(jià)，硅元素顯＋4價(jià)，則碳化硅的化學(xué)式為

A. SiC B. Si2C3 C. Si3C2 D. SiC2

關(guān)于下列符號或圖示的說法正確的是（ ）

A.①表示兩個(gè)氧原子 B.由⑥可知鉻的相對原子質(zhì)量為52.00g

C.②和④均表示陽離子 D.③和⑤表示的元素在形成化合物時(shí)通常顯-1價(jià)

下圖中圖1是t ℃時(shí)相同質(zhì)量的甲、乙兩物質(zhì)同時(shí)放入100 g水中的溶解情況，圖2是它們的溶解度曲線圖，下列說法不正確的是（　　）

A.t2℃時(shí)，甲、乙兩物質(zhì)的溶解度相等

B.t2 ＞t＞ t1

C.若使圖1中的甲全部溶解，可采用升高溫度的辦法

D.將t2℃時(shí)兩物質(zhì)的飽和溶液降低到t1℃時(shí)均有晶體析出

下列實(shí)驗(yàn)方案中，能達(dá)到實(shí)驗(yàn)?zāi)康牡氖牵ā　。?/p>

A.A B.B C.C D.D

對比實(shí)驗(yàn)是常用的實(shí)驗(yàn)方法。下列實(shí)驗(yàn)不能達(dá)到目的是（　�。�

A.比較鎂與鐵的金屬活動(dòng)性

B.比較純金屬與合金的硬度相互刻劃

C.探究同種物質(zhì)在不同溶劑中的溶解性

D.驗(yàn)證的性質(zhì)

下列圖像與變化對應(yīng)關(guān)系錯(cuò)誤的是(　　)

A.堿溶液加水稀 B.通電分解水 C.煅燒石灰石 D.石灰水變質(zhì)

如圖是A、B、C三種固體物質(zhì)的溶解度曲線，下列分析正確的是（　�。�

A.20℃時(shí)等質(zhì)量的A和C兩種物質(zhì)的溶液中溶質(zhì)的質(zhì)量相等

B.50℃時(shí)把50gA放入100g水中能得到A的飽和溶液，其溶質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為50%

C.將50℃時(shí)A、B、C三種物質(zhì)的飽和溶液都降溫至20℃時(shí)，這三種溶液的溶質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)的大小關(guān)系是B＞A＝C

D.將C的飽和溶液變?yōu)椴伙柡腿芤�，可采用降溫的方�?/p>